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          行業(yè)產(chǎn)品

          • 行業(yè)產(chǎn)品

          德?lián)P光電有限公司


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          雙面曝光曝光機(jī)

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          產(chǎn)品型號(hào)

          品       牌

          廠商性質(zhì)其他

          所  在  地

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          更新時(shí)間:2023-06-23 18:15:23瀏覽次數(shù):243次

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          經(jīng)營模式:其他

          商鋪產(chǎn)品:6條

          所在地區(qū):

          產(chǎn)品簡(jiǎn)介

          產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 雙面曝光曝光機(jī)采用上及下兩組曝光源,欲曝光機(jī)基板夾于上下光罩之間同時(shí)曝基板上下兩面,對(duì)雙面制程之基板之產(chǎn)能, 能兩倍于單面曝光制程。

          詳細(xì)介紹

          雙面曝光曝光機(jī)

          產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

          雙面曝光曝光機(jī)采用上及下兩組曝光源,

          欲曝光機(jī)基板夾于上下光罩之間同時(shí)曝基板上下兩面,

          對(duì)雙面制程之基板之產(chǎn)能, 能兩倍于單面曝光制程。

          紫外光源功率350W or 500W

          曝光光源尺寸:4″,5″,6″ , 8″

          波長(zhǎng): UV(350W時(shí)365nm強(qiáng)度約16~20mW/cm2)

          均勻度: +-5%電源供應(yīng)器:定功率控制

          快門控制計(jì)時(shí)器:0.1~999.9秒

          采用可變倍率鏡頭影像系統(tǒng),總影像倍率100X-600X。

          小型高解析黑白CCD攝影機(jī),19"LCD螢?zāi)籐ED同軸光源打光,

          影像解析度可達(dá)1um鏡頭位置調(diào)整,可前后左右上下微調(diào)約20mm,

          可選擇使用一組或兩組影像系統(tǒng),選配快速掃描臺(tái),可快速移動(dòng)鏡頭,前后左右移動(dòng)約10cm。

          光罩真空吸盤: 4",5" 或 6"下吸式

          晶圓真空吸盤: 破片2",3",4" 或5"

          具光罩與晶圓平行面校正功能,

          晶圓真空吸盤可前后左右調(diào)整約10mm,調(diào)整靈敏度1um

          旋轉(zhuǎn)調(diào)整約5度,調(diào)整靈敏度0.001度

          Z軸可調(diào)整約3mm, 調(diào)整靈敏度1um

          Z軸具千分表可顯示光罩與晶圓間距,Z軸可設(shè)定對(duì)準(zhǔn)與曝光兩種間隙,可調(diào)整接觸真空吸附力大小

          曝光模式有Vacuum contact,Soft contact,Proximity 人工置放晶片與調(diào)整晶片位置,取放晶圓時(shí)光罩吸盤以手開啟 。

          人工置放晶片與調(diào)整晶片位置,取放晶圓時(shí)光罩吸盤以手開啟。

          采全手動(dòng)撥鈕操作系統(tǒng),以手動(dòng)控制面板操作

          操作項(xiàng)目包括光罩與晶圓之更換,光罩與晶圓間隙之切換

          光罩與晶圓平行面校正,真空接觸之切換與真空值調(diào)整

          Z軸的歸零,鏡頭與曝光源左右交替移至對(duì)準(zhǔn)臺(tái)上方,并有安全互鎖功能。

          桌上型大底板機(jī)座,具調(diào)整腳。

          采真空接觸曝光圖形解析可達(dá)1um,

          近接曝光依光罩與晶圓間隙可達(dá)3~5um。

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