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          行業(yè)產(chǎn)品

          • 行業(yè)產(chǎn)品

          德?lián)P光電有限公司


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          雙面對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)

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          品       牌

          廠商性質(zhì)其他

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          更新時(shí)間:2023-06-24 11:48:00瀏覽次數(shù):209次

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          經(jīng)營(yíng)模式:其他

          商鋪產(chǎn)品:6條

          所在地區(qū):

          產(chǎn)品簡(jiǎn)介

          產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 對(duì)于無(wú)法正常正面對(duì)位之制程,可以采用背面對(duì)位方式來(lái)對(duì)位, 雙面對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)包含有正面對(duì)位及背面對(duì)位兩套對(duì)位影像系統(tǒng)。

          詳細(xì)介紹

          雙面對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)

          雙面對(duì)準(zhǔn)單面曝光系統(tǒng)
          產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

          對(duì)于無(wú)法正常正面對(duì)位之制程,可以采用背面對(duì)位方式來(lái)對(duì)位, 雙面對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)包含有正面對(duì)位及背面對(duì)位兩套對(duì)位影像系統(tǒng)。

          紫外光源機(jī)型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W,3500W,5000W 。

          曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″ 。

          波長(zhǎng) : NUV (含365nm, 400nm,435nm) 光源平行半角 : 1.5~2.5度 (依出光口徑)。

          均勻度 : +-3~5% ,高壓汞燈泡及電源供應(yīng)器。

          正面對(duì)準(zhǔn)影像系統(tǒng)采用可變倍率鏡頭方便對(duì)準(zhǔn)操作,標(biāo)準(zhǔn)倍率50X-300X,

          配合CCD影像系統(tǒng),19″ LCD螢?zāi)?打光有LED同軸光或環(huán)形光, 觀測(cè)的兩點(diǎn)間距4cm-15cm ,

          可選配鏡頭掃描臺(tái)以快速移動(dòng)鏡頭, 背面對(duì)準(zhǔn)影像系統(tǒng)采用多段倍率鏡頭或固定倍率鏡頭,

          雙CCD攝影機(jī)影像系統(tǒng),切換使用上影像LCD螢?zāi)籐ED同軸打光, 兩組背對(duì)準(zhǔn)影像處理器,

          鏡頭前后左右上下微調(diào)約10mm, 可加裝破片對(duì)位用菱鏡組。

          光罩真空吸盤(pán) : 上吸式或下吸式 4″, 5″,6″,7″, 9″ 。

          晶圓真空 Chuck : 2″, 4″,6″,8″ 圓形或方形, 具光罩晶圓水平校正功能。

          曝光模式有 : 真空接觸式與近接式,可調(diào)整真空吸附力大小, X,Y軸調(diào)整10mm,調(diào)整解析度2um, Z軸可調(diào)整5mm, 千分表解析度1um, 上光罩開(kāi)啟以取放基板。

          采PLC半自動(dòng)操作系統(tǒng), 可切換手動(dòng)及自動(dòng)模式。

          操作流程 : 置基板(按鍵)上光罩關(guān)閉,鏡頭移入做對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作, (按鍵)上光罩下壓, 鏡頭移出燈源移入曝光(計(jì)時(shí)),燈源移出取,上光罩開(kāi)啟,取基板。

          曝光快門控制 : 計(jì)時(shí)器控制 0.1-999秒或能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。

          具四個(gè)防震氣墊,具調(diào)整腳及移動(dòng)輪, 鋁擠型機(jī)架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機(jī)臺(tái),開(kāi)數(shù)個(gè)操作與維修門窗及視窗。

          產(chǎn)量依對(duì)位精度及曝光時(shí)間而不同可達(dá)每分鐘曝三片,

          采真空接觸曝光圖形解析可達(dá)1um以內(nèi)(正光阻厚1um),

          采近接式曝光依晶圓與光罩間距設(shè)定約在3~5um。

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