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          行業(yè)產(chǎn)品
          
							
						
          
						
            
							
          • 行業(yè)產(chǎn)品
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          塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司
                                
                
                
          

							
          
                        			
          
		
          
	
          
	
	
          
		
          
            
          
                當(dāng)前位置：塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司>>DNK科研>>光刻機  曝光機>>日本DNK科研曝光機光刻機圓晶
            
          
			
          
				
          
					
          日本DNK科研曝光機光刻機圓晶
          
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          具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          
				
          
				
				
          
						
          
							
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          聯(lián)系方式：黃羅龍查看聯(lián)系方式
          
									                                                 
          
						
          
							
          
								更新時間：2023-07-15 13:53:45瀏覽次數(shù)：410次
							
          
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                    產(chǎn)品簡介
                
          
				
          
                      
          
                                                                      
          
					
          簡單介紹：                            主要特長除近接曝光外，還可對應(yīng)接觸曝光(軟接觸和硬接觸)可對應(yīng)幅度為500mm以上的大型膠片。采用獨自的光學(xué)系統(tǒng),可選擇單面曝光或雙面曝光。還能進行一燈式雙面曝光。裝載有自動對位功能。通過特殊照明實現(xiàn)透明材料的對位。除Roll to Roll外可設(shè)計枚葉式搬送等機構(gòu),根據(jù)客戶的需要構(gòu)成裝置?？蛇x擇基板臺溫度控制及掩膜冷卻規(guī)格等。(選購項)
          
				
          
				
          
                    詳細(xì)介紹
                
          
			    
          
			        
          
			                     
                       詳情介紹：         
                   
                       
           光刻機介紹 
           
           曝光裝置  MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″   
           
           光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW  
           
           曝光裝置 MA-1400  基板追大尺寸400 x 400mm  
           
           光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW  
           
           LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″  
           
           光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW  
           
           ?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M   材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
           峰值搜索）            
           
           ?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML  光源超高壓汞燈：3.5kW  ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)  
           
           マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
           マスクレス露光裝置MX-1201E  曝光掃描速度22.5mm/s  有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135            
           
           マスクレス露光裝置MX-1205  曝光掃描速度9/4.5mm/s  有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50  
           
              
           
           
           主要用途 
           
             
          •  觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL、鋰離子電池、太陽能電池、印刷線路板 
            •  
          •  
            •  
           
           適合觸摸屏、電子紙、光學(xué)膠片(3D等)、有機EL用掩膜等膠片形狀基材的曝光機。對應(yīng)Roll to Roll,可實現(xiàn)軟性、薄型、輕量基材的大量生產(chǎn)。 
           
            
             
           
             
                   
               
			        
          
			    
          
                			    
          關(guān)鍵詞：觸摸屏  印刷線路板
          
                                                				
			
          
			
          
		
          
	
          
	
    
          
		
          
			
          
				
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