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三河建華高科有限責任公司
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更新時間：2023-07-13 07:12:11瀏覽次數(shù)：228次
聯(lián)系我時，請告知來自 智能制造網(wǎng)BG-406系列曝光機主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導體器件制造工藝中的對準和曝光
BG-406系列曝光機主要用于中小規(guī)模集成電路、二極管、三極管、GPP器件、LED、電力電子器件、MEMS和其它半導體器件制造工藝中的對準和曝光。該系列曝光機包括4″、6″單/雙面曝光機，可實現(xiàn)單/雙面對準、單面曝光。
主要技術特點
對準工作臺
對準精度搞，漂移小，精密楔形誤差補償機構實現(xiàn)三點找平，找平力小，延長掩摸版使用壽命。
曝光系統(tǒng)
采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等精密光學件，具有較高的光強、均勻性、光學分辨率。
顯微鏡
顯微鏡像質(zhì)清晰，觀察舒適。
顯微鏡掃描系統(tǒng)
采用電機驅(qū)動，帶動顯微鏡系統(tǒng)相對工作臺的二維運動，完成顯微鏡觀察和掃描。
控制系統(tǒng)
采用工業(yè)計算機總線系統(tǒng)，人機交互界面簡潔直觀，操作方便,同時提供個性化服務。
主要技術指標
| 性能名稱 | 技術指標 | ||
| 工作臺行程 | Ｘ向 | ±5mm | |
| Y向 | ±5mm | ||
| Z向 | 8mm | ||
| θ向 | ±5° | ||
| 適用基片尺寸 | Max 6″（φ150 mm） | ||
| 適用掩模版尺寸 | Max 7″（175×175 mm） | ||
| 頂部顯微鏡 | 放大倍率 | CCD連續(xù)變倍40×～300× | |
| 掃描范圍 | 50mm×50mm | ||
| 調(diào)焦范圍 | 8mm | ||
| 物鏡分離距離 | 28～90mm（4″晶圓） 75～150mm（6″晶圓） | ||
| 對準精度 | ±0.5μm | ||
| 底部顯微鏡 | 放大倍率 | 330× | |
| 物鏡掃描范圍X | 50～140mm | ||
| 物鏡掃描范圍Y | ±12mm | ||
| 對準精度 | ±2μm | ||
| 曝光光源 | UV365，500W超高壓汞燈 | ||
| 曝光面積 | φ108mm φ160mm | ||
| 曝光分辨率 | 1.5μm（膠厚≤1μm正膠、真空接觸） | ||
| 光強 | ≥20mW/cm2 | ||
| 曝光不均勻性 | ±3%（曝光面積φ108mm） ±5%（曝光面積φ160mm） | ||
| 曝光時間 | 0～999s | ||
| 整機功率 | 2KW | ||
| 外形尺寸 | 1300mm×1100mm×1650mm | ||
| 重量 | 350Kg | ||
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