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三河建華高科有限責任公司
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更新時間：2023-07-10 09:40:59瀏覽次數(shù)：337次
聯(lián)系我時，請告知來自 智能制造網主要用于中小規(guī)模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光
主要用于中小規(guī)模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光。本產品采用LED光源，操作方便、穩(wěn)定性高、重復性好，并具有較高的性能價格比，可廣泛應用于科研和生產。
主要技術特點
對準工作臺
對準精度搞，漂移小，精密楔形誤差補償機構實現(xiàn)三點找平，找平力小，延長掩摸版使用壽命
曝光系統(tǒng)
紫外光曝光系統(tǒng)采用了柱體蠅眼透鏡和多點UVLED燈，光能利用率高，光強分布均勻。
分離視場顯微鏡
在X、Y方面進行大范圍掃描觀察，可進行單視場或雙視場切換，提高對準效率和套準精度，同時兼容CCD成像顯示功能。
控制系統(tǒng)
電氣控制采用可編程序控制器（PLC）、LCD顯示器，操作方便，汞燈電源易于觸發(fā)，可靠性高。該設備的關鍵件采用進口或專業(yè)廠家制造，氣動元件采用SMC產品，提高了設備的穩(wěn)定性、可靠性，同時提供個性化服務。
主要技術指標
| 性能名稱 | 技術指標 | |
| 適用基片尺寸 | Max. φ4″（φ100mm） | |
| 適用掩模版尺寸 | Max. 5″（125mm×125mm） | |
| 工作臺行程 | Ｘ向 | ±5mm |
| Y向 | ±5mm | |
| Z向 | 3mm | |
| θ向 | ±12° | |
| 基片與掩模版分離間隙 | 0～0.05mm | |
| 對準精度 | ±1μm | |
| 分離視場顯微鏡 | 目鏡 | 10× |
| 物鏡 | 10× | |
| 物鏡分離距離 | 28～90mm | |
| 掃描范圍 | 50mm×50mm | |
| 調焦范圍 | 8mm | |
| 曝光光源 | 250W進口超高壓汞燈 | |
| 光強 | ≥15mW/cm2 | |
| 曝光面積 | φ108mm | |
| 曝光分辨率 | 1.5μm（真空接觸） | |
| 曝光不均勻性 | ±3% | |
| 曝光時間 | 0～999s | |
| 整機功率 | 1000W | |
| 外型尺寸（長×寬×高） | 740mm×830mm×1300mm | |
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