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          半自動(dòng)光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)

          參考價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱德?lián)P光電有限公司
          • 品       牌
          • 型       號(hào)
          • 所  在  地
          • 廠商性質(zhì)其他
          • 更新時(shí)間2023/6/20 19:11:32
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          本公司成立于2006年,為一小型之設(shè)備制造廠,專精于半導(dǎo)體微影制程之光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)及曝光源之開發(fā)制造,從曝光燈箱內(nèi)的光學(xué)設(shè)計(jì)到各種型式的完整曝光機(jī),本公司經(jīng)多年努力已自行開發(fā)完成,并已出貨國(guó)內(nèi)外眾多客戶。

          曝光機(jī)
          產(chǎn)品簡(jiǎn)介: 用PLC程式控制,使多個(gè)手動(dòng)動(dòng)作能連動(dòng),減少手動(dòng)操作的程序,系統(tǒng)簡(jiǎn)單,性能可靠,適合量產(chǎn)線使用。
          半自動(dòng)光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī) 產(chǎn)品信息

          半自動(dòng)光罩對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)

          適合量產(chǎn)線使用 單面對(duì)準(zhǔn)曝光系統(tǒng)
          產(chǎn)品簡(jiǎn)介:

          用PLC程式控制,使多個(gè)手動(dòng)動(dòng)作能連動(dòng),減少手動(dòng)操作的程序,系統(tǒng)簡(jiǎn)單,性能可靠,適合量產(chǎn)線使用。

          紫外光源機(jī)型有功率 : 350W,500W,1000W,2000W,3500W,5000W 。

          曝光光源尺寸 : 4″,6″,8″,10″,12″ 。

          波長(zhǎng) : NUV(含365nm, 400nm, 435nm) ,光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口徑)。

          均勻度: +-3~5% ,高壓汞燈泡及電源供應(yīng)器。

          采用可變倍率鏡頭方便對(duì)準(zhǔn)操作,標(biāo)準(zhǔn)倍率 50X-300X, 配合CCD影像系統(tǒng),

          19吋LCD螢?zāi)唬?打光有LED同軸光或環(huán)形光, 觀測(cè)的兩點(diǎn)間距 4cm-15cm ,

          可選配鏡頭掃描臺(tái)以快速移動(dòng)鏡頭, 可選配背面對(duì)準(zhǔn)影像系統(tǒng)。

          光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式4″,5″,6″, 7″, 9″ 。

          晶圓真空Chuck : 2″, 4″, 6″,8″圓形或方形, 具光罩晶圓水平校正功能。

          曝光模式有 : 真空接觸式與近接式,可調(diào)整真空吸附力大小, X,Y軸調(diào)整 10mm,調(diào)整解析度 2um, Z軸可調(diào)整 5mm,

          千分表解析度 1um, 上光罩開啟以取放基板。

          采PLC半自動(dòng)操作系統(tǒng), 可切換手動(dòng)及自動(dòng)模式。

          操作流程 : 置基板, (按鍵)上光罩關(guān)閉,鏡頭移入做對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作,(按鍵)上光罩下壓,鏡頭移出燈源移入曝光(計(jì)時(shí)),

          燈源移出取,上光罩開啟,取基板。

          曝光快門控制 : 計(jì)時(shí)器控制 0.1-999秒。

          能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。

          具四個(gè)防震氣墊,具調(diào)整腳及移動(dòng)輪, 鋁擠型機(jī)架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機(jī)臺(tái),開數(shù)個(gè)操作與維修門窗及視窗。

          產(chǎn)量依對(duì)位精度及曝光時(shí)間而不同可達(dá)每分鐘曝三片,

          采真空接觸曝光圖形解析可達(dá)1um以內(nèi)(正光阻厚 1um),

          采近接式曝光依晶圓與光罩間距設(shè)定約在 3~5um。

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