紫外光源機型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W，3500W，5000W 。

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″ 。

波長 : NUV(含365nm，400nm，435nm)，光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口徑) 。

均勻度: +-3~5%，高壓汞燈泡及電源供應(yīng)器。

采用固定倍率鏡頭， 預(yù)對臺一支或兩支鏡頭做粗定位， 進(jìn)片位置兩支鏡頭做初步對位， 曝光位置兩支鏡頭做精密對位。

相機可采類比或數(shù)位，可使用百萬晝素相機， 由PC之客制化對位軟體，做影像自動對位。

影像打光有 : LED同軸光或環(huán)形光， 可選背面對準(zhǔn)影像系統(tǒng)機型。

可將來自輸入臺的基板作靠邊粗定位， 以便進(jìn)片手臂送至對準(zhǔn)臺做精密對準(zhǔn)。

左手小手臂可輸入預(yù)對臺上之基板至對準(zhǔn)臺, 與取出曝光后之基板至輸出臺。

晶舟輸入臺由基板推入器將基板傳至預(yù)對臺.曝光后的基板， 由導(dǎo)出臺傳至輸出臺之晶舟，未完成之基本移至退片臺。

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″， 5″，6″，9″ 。

晶圓真空吸盤 : 2″， 4″， 6″，8″ 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式可選 : 真空接觸式與近接式， X，Y，T軸馬達(dá)調(diào)整 10mm，解析度 1um， Z軸馬達(dá)調(diào)整 5mm，解析度 1um，

上光罩開啟以取放基板， 自動對準(zhǔn)動作依自動對準(zhǔn)軟體計算結(jié)果由PLC控制調(diào)整。

PLC及人機界面控制系統(tǒng)和工業(yè)電腦之自動對準(zhǔn)軟體， 作基板輸出入及對準(zhǔn)曝光程序自動操作。

具四個防震氣墊，具調(diào)整腳及移動輪， 鋁擠型機架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機臺， 開數(shù)個操作與維修門窗及視窗。

產(chǎn)量依對位精度及曝光時間而不同， 近接曝光機型可達(dá)每分鐘 5片，

采真空接觸曝光圖形解析可達(dá) 1um以內(nèi)， 采近接式曝光依晶圓與光罩間距設(shè)定約在 5~10um。