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          上海伯東代理的連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備

          參考價(jià)1000000-10000000
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱伯東企業(yè)(上海)有限公司
          • 品       牌其他品牌
          • 型       號(hào)
          • 所  在  地上海市
          • 廠商性質(zhì)代理商
          • 更新時(shí)間2023/4/26 10:03:08
          • 訪問次數(shù)253
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          伯東公司成立于1953 年,范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作,集團(tuán)年?duì)I業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國(guó)內(nèi)主要城市:北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設(shè)有營(yíng)業(yè)據(jù)點(diǎn)。
          上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國(guó)客戶提供進(jìn)口真空產(chǎn)品、推動(dòng)中國(guó)真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會(huì)責(zé)任為經(jīng)營(yíng)理念,已累計(jì)為超過10,000家企業(yè)提供真空服務(wù),覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。
                上海伯東代理品牌包含:德國(guó)Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國(guó) KRI 離子源、美國(guó)Brooks Polycold 制冷機(jī),美國(guó)HVA 真空閥門,美國(guó) inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測(cè)試機(jī),離子蝕刻機(jī),真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。
             上海伯東作為真空品牌**代理商,全權(quán)負(fù)責(zé)在中國(guó)地區(qū)的銷售和維修服務(wù),* 使用原廠進(jìn)口零部件以及國(guó)外受訓(xùn)維修工程師;擁有*的拆解,維修,校正能力并提供24小時(shí)在線服務(wù)。

          德國(guó) Pfeiffer 真空產(chǎn)品, 美國(guó) inTEST 高低溫測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱, 美國(guó) Polycold 冷凍機(jī),美國(guó) HVA 真空閥門
          上海伯東代理的連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備可準(zhǔn)確控制其濺鍍制程條件, 為客戶提供更優(yōu)質(zhì)的薄膜, 廣泛應(yīng)用于納米研究技術(shù), 材料研究, 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究, 太陽(yáng)能電池和觸碰螢?zāi)坏刃袠I(yè).
          上海伯東代理的連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備 產(chǎn)品信息

          連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備 In-Line Sputter

          連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備 In-Line sputter
          上海伯東代理的連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備可準(zhǔn)確控制其濺鍍制程條件, 為客戶提供更優(yōu)質(zhì)的薄膜, 廣泛應(yīng)用于納米研究技術(shù), 材料研究, 氧化物, 氮化物和金屬材料的研究, 太陽(yáng)能電池和觸碰螢?zāi)坏刃袠I(yè).
          連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備
          In-Line 的濺鍍沉積是指基板在一個(gè)或多個(gè)濺鍍陰極下方以線性的方式通過以獲取其薄膜沉積. 其基板沿著軌道穿過各個(gè)真空腔內(nèi). 其電漿產(chǎn)生器有許多種類并且每一種都可使用, 例如射頻電源, 直流電源或脈沖直流電源. 還可以容納諸如濺鍍蝕刻, 基板加熱或電漿清洗之類的可選步驟, 并且具有完整的儀器和控制裝置可用于金屬導(dǎo)電薄膜, 電介質(zhì), 光學(xué)薄膜或其他濺鍍應(yīng)用.

          連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備配置和優(yōu)點(diǎn)
          客制化基板尺寸為 1100 x 1300 mm2   (玻璃)
          薄膜均勻度小于 ±5%
          高沉積速率 ≥ 250nm/min 和高效率陰極
          濺鍍功率: 射頻5Kw, 直流或脈沖直流 20kW
          具有高均勻的氣體分布的流量控制器
          穩(wěn)定的溫度控制, 可將基板加熱到 400°C
          水平或垂直濺鍍
          連續(xù)式多腔磁控濺鍍?cè)O(shè)備
           

          腔體
          客制化的腔體尺寸取決于基板尺寸和其應(yīng)用
          具有顯示功能的全量程真空計(jì)和用于壓力控制的 Baratron 真空計(jì)
          腔體的極限真空度約為10-7 Torr

          選件
          基板載臺(tái)回流線
          自動(dòng)傳送機(jī)構(gòu)
          OES, RGA 或制程監(jiān)控的額外備用端口

          應(yīng)用領(lǐng)域
          納米研究技術(shù)
          產(chǎn)品質(zhì)量控制和質(zhì)量檢查
          材料研究
          太陽(yáng)能電池
          觸碰屏幕
          TFT-LCD
          氧化物, 氮化物和金屬材料的研究

          若您需要進(jìn)一步的了解上海伯東磁控濺射鍍膜機(jī), 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式
          上海伯東: 羅先生


          關(guān)鍵詞:流量控制器
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