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          行業(yè)產(chǎn)品
          
							
						
          
						
            
							
          • 行業(yè)產(chǎn)品
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          上海德竹芯源科技有限公司
                                
                
                
          

							
          
                        			
          
		
          
	
          
	
	
          
		
          
            
          
                當(dāng)前位置：上海德竹芯源科技有限公司>>半導(dǎo)體工藝設(shè)備>>610 光刻機(jī)
            
          
			
          
				
          
					
          610 光刻機(jī)
          
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          參  考  價(jià)面議  
          
					                    
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          
				
          
				
				
          
						
          
							
          產(chǎn)品型號(hào)610
          
							
          品       牌
          
		                    
          廠商性質(zhì)其他
          
		                    							
          所  在  地上海
          
						
          
                        
                    
          
					 							        										
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								更新時(shí)間：2024-05-15 09:34:17瀏覽次數(shù)：150次
							
          
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                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
          
				
          
                      
          
                                                                      
          
					
          EVG 610 光刻機(jī)主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、光電、生物醫(yī)療等領(lǐng)域，在生產(chǎn)精密電子元件、微型機(jī)械元件和光學(xué)元件等方面有著廣泛的應(yīng)用。
          
				
          
				
          
                    詳細(xì)介紹
                
          
			    
          
			        
          
			                                   
                                   
                                       
          主要特點(diǎn)及參數(shù)
          ● 高分辨率：可實(shí)現(xiàn)高質(zhì)量圖像制作，提高半導(dǎo)體器件的性能
          ● 靈活性：適用于各種不同類型的器件，如MEMS、晶體管和圖像傳感器等
          ● 高效率：采用的光學(xué)和機(jī)械技術(shù)，可在短時(shí)間內(nèi)完成大量生產(chǎn)任務(wù)
          ● 高精度：采用高精度光學(xué)系統(tǒng)和控制技術(shù)，保證圖像的精確性和一致性
          ● 穩(wěn)定性：通過(guò)對(duì)光路的精細(xì)調(diào)整和控制，保證生產(chǎn)的穩(wěn)定性
          ● 安全性：通過(guò)安全保護(hù)系統(tǒng)，保證生產(chǎn)過(guò)程的安全
          ● 分辨率：每英寸可達(dá)到 130 nm
          ● 工作面積：610 mm × 610 mm
          ● 光源：KrF 激光
          ● 光路系統(tǒng)：F-Theta 鏡片
          ● 系統(tǒng)控制：通過(guò)軟件控制，提供方便快捷的生產(chǎn)操作

          EVG 610 光刻機(jī)的工作過(guò)程如下：
          1. 進(jìn)料：將待制作的半導(dǎo)體器件通過(guò)輸送系統(tǒng)送入光刻機(jī)
          2. 光學(xué)對(duì)準(zhǔn)：通過(guò)光學(xué)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)將待制作的器件與光學(xué)系統(tǒng)對(duì)齊
          3. 曝光：使用 KrF 激光對(duì)器件進(jìn)行曝光，形成圖像
          4. 開(kāi)發(fā)：使用開(kāi)發(fā)液對(duì)曝光后的圖像進(jìn)行處理，形成最終圖形
          5. 刻蝕：將圖形轉(zhuǎn)移到器件表面，形成最終的半導(dǎo)體元件
          6. 出料：將制作完成的半導(dǎo)體元件通過(guò)輸送系統(tǒng)送出光刻機(jī)
                                   
                                 
                                 
                                   
                                       
          ● 分辨率：每英寸可達(dá)到 130 nm
          ● 工作面積：610 mm × 610 mm
          ● 光源：KrF 激光
          ● 光路系統(tǒng)：F-Theta 鏡片
          ● 系統(tǒng)控制：通過(guò)軟件控制，提供方便快捷的生產(chǎn)操作
                                   
                                 
                                 
			        
          
			    
          
                			    
          關(guān)鍵詞：晶體管
          
                                                				
			
          
			
          
		
          
	
          
	
    
          
		
          
			
          
				
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