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H94-17G型4″單面光刻機(jī)

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產(chǎn)品型號H94-17G型

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更新時(shí)間：2023-10-09 11:25:02瀏覽次數(shù)：209次

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杭州華盼科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

簡要描述：主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

詳細(xì)介紹

主要用途

主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、光電子器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。

主要構(gòu)成
主要由高精度對準(zhǔn)工作臺、雙目分離視場CCD顯微顯示系統(tǒng)、曝光頭、氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、防震工作臺和附件箱等組成。

主要功能特點(diǎn)
1.適用范圍廣
適用于Φ100mm以下，厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對準(zhǔn)曝光。
2.結(jié)構(gòu)*
具有氣浮式找平機(jī)構(gòu)和可實(shí)現(xiàn)真空硬接觸、軟接觸、微力接觸的真空密著機(jī)構(gòu)；具有真空掩膜版架、真空片吸盤。
3.操作簡便
采用翻板方式取片、放片；按鈕、按鍵方式操作，可實(shí)現(xiàn)真空吸版、吸片、吸浮球、吸掃描鎖等功能，操作、調(diào)試、維護(hù)、修理都非常簡便。
4.可靠性高
采用進(jìn)口電磁閥、按鈕、定時(shí)器；采用的氣動系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和精密的機(jī)械零件，使本機(jī)具有非常高的可靠性。
5.特設(shè)“碎片”處理功能
解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對準(zhǔn)的問題。

主要技術(shù)指標(biāo)

◆曝光類型：單面
◆曝光面積：≥φ120mm
◆光束不平行度：≤6°
◆曝光不均勻性：≤±5%
◆曝光強(qiáng)度：≥5mw/cm2
◆曝光分辨率：≤1.5μm
◆曝光模式：套刻曝光
◆對準(zhǔn)精度：1μm
◆掃描范圍：X：±40mm Y：±35mm
◆對準(zhǔn)范圍：X、Y調(diào)節(jié)±4mm，旋轉(zhuǎn)調(diào)節(jié)90°
◆較大升降：8mm
◆密著曝光方式：密著曝光可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光；
◆顯微系統(tǒng)：雙視場CCD系統(tǒng)；放大倍數(shù)5X～300X連續(xù)可調(diào)（物鏡 1.1～7.5倍連續(xù)可調(diào)）；雙物鏡距離可調(diào)范圍11mm～100 mm；計(jì)算機(jī)圖像處理系統(tǒng)；
◆掩模版尺寸：2.5″×2.5″、4″×4″、5″×5″
◆基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″
◆基片厚度：≤5 mm
◆曝光燈功率：直流200W
◆曝光定時(shí)：0～999.9秒可調(diào)
◆電源：AC220V 50Hz 1kW
◆空氣：P≥0.1MPa，耗氣量0.2m3/小時(shí)；
◆真空度：-0.07MPa～-0.09MPa
◆外形尺寸：918×680×1450(L×W×H)mm
◆重量：～160kg