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          上海伯東代理進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200

          參考價(jià) 360000
          訂貨量 ≥1臺(tái)
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 公司名稱伯東企業(yè)(上海)有限公司
          • 品       牌其他品牌
          • 型       號(hào)
          • 所  在  地上海市
          • 廠商性質(zhì)代理商
          • 更新時(shí)間2023/4/11 12:05:28
          • 訪問(wèn)次數(shù)363
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          伯東公司成立于1953 年,范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷(xiāo)售及相關(guān)服務(wù)工作,集團(tuán)年?duì)I業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國(guó)內(nèi)主要城市:北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門(mén)設(shè)有營(yíng)業(yè)據(jù)點(diǎn)。
          上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國(guó)客戶提供進(jìn)口真空產(chǎn)品、推動(dòng)中國(guó)真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會(huì)責(zé)任為經(jīng)營(yíng)理念,已累計(jì)為超過(guò)10,000家企業(yè)提供真空服務(wù),覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。
                上海伯東代理品牌包含:德國(guó)Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國(guó) KRI 離子源、美國(guó)Brooks Polycold 制冷機(jī),美國(guó)HVA 真空閥門(mén),美國(guó) inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測(cè)試機(jī),離子蝕刻機(jī),真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。
             上海伯東作為真空品牌**代理商,全權(quán)負(fù)責(zé)在中國(guó)地區(qū)的銷(xiāo)售和維修服務(wù),* 使用原廠進(jìn)口零部件以及國(guó)外受訓(xùn)維修工程師;擁有*的拆解,維修,校正能力并提供24小時(shí)在線服務(wù)。

          德國(guó) Pfeiffer 真空產(chǎn)品, 美國(guó) inTEST 高低溫測(cè)試機(jī), 美國(guó) Ambrell 感應(yīng)加熱, 美國(guó) Polycold 冷凍機(jī),美國(guó) HVA 真空閥門(mén)
          上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計(jì)離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), 例如研發(fā)分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡(jiǎn)單是理想的生產(chǎn)工具.
          上海伯東代理進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 產(chǎn)品信息
          霍爾離子源 eH 200

          KRI 霍爾離子源 eH 200
          上海伯東代理美國(guó)進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH200 是霍爾離子源型 eH 系列中尺寸最小, 低成本設(shè)計(jì)離子源. 霍爾離子源 eH200 適用于小型真空腔內(nèi), 例如研發(fā)分析, 薄膜沉積和離子清洗. 霍爾離子源 eH200 操作簡(jiǎn)單是理想的生產(chǎn)工具.

          KRI 霍爾離子源 eH 200 技術(shù)參數(shù):

          型號(hào)

          eH 200

          供電

          DC magnetic confinement

            - 電壓

          40-300V VDC

            - 離子源直徑

          ~ 2 cm

            - 陽(yáng)極結(jié)構(gòu)

          模塊化

          電源控制

          eHx-3005A

          配置

          -

            - 陰極中和器

          Filament or Hollow Cathode

            - 離子束發(fā)散角度

          > 45° (hwhm)

            - 陽(yáng)極

          標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved

            - 水冷

          無(wú)

            - 底座

          移動(dòng)或快接法蘭

            - 高度

          2.0'

            - 直徑

          2.5'

            -加工材料

          金屬
          電介質(zhì)
          半導(dǎo)體

            -工藝氣體

          Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors

            - 安裝距離

          6-24”

            - 自動(dòng)控制

          控制4種氣體

          * 可選: 可調(diào)角度的支架; Filamentless; Sidewinder

          KRI 霍爾離子源 eH 200 應(yīng)用領(lǐng)域:
          濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
          輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD
          表面改性, 激活 SM
          直接沉積 DD



          若您需要進(jìn)一步的了解 KRI 霍爾離子源, 請(qǐng)參考以下聯(lián)絡(luò)方式

          上海伯東: 羅先生



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