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上海伯東代理美國 KRI 霍爾離子源 eH 3000

參考價(jià)	￥ 600000
訂貨量	≥1臺(tái)

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

公司名稱伯東企業(yè)（上海）有限公司
品牌其他品牌
型號(hào)
所在地上海市
廠商性質(zhì)代理商
更新時(shí)間2023/4/4 16:38:42
訪問次數(shù)339

產(chǎn)品標(biāo)簽:

離子槍霍爾離子源 KRI 離子源離子源 eH 3000

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公司介紹主營產(chǎn)品

伯東公司成立于1953 年，范圍內(nèi)有一千七百名員工。伯東企業(yè)(上海)有限公司(www.hakuto-vacuum.cn)主要從事半導(dǎo)體設(shè)備、電子零部件加工、銷售及相關(guān)服務(wù)工作，集團(tuán)年?duì)I業(yè)額約為100億人民幣。伯東公司在國內(nèi)主要城市：北京、蘇州、廣州、深圳、成都及廈門設(shè)有營業(yè)據(jù)點(diǎn)。
上海伯東真空產(chǎn)品事業(yè)部秉承為廣大中國客戶提供進(jìn)口真空產(chǎn)品、推動(dòng)中國真空工藝發(fā)展、承擔(dān)企業(yè)社會(huì)責(zé)任為經(jīng)營理念，已累計(jì)為超過10,000家企業(yè)提供真空服務(wù)，覆蓋工業(yè)、半導(dǎo)體、鍍膜、科研和分析行業(yè)。
上海伯東代理品牌包含：德國Pfeiffer 全系列真空產(chǎn)品、美國 KRI 離子源、美國Brooks Polycold 制冷機(jī)，美國HVA 真空閥門，美國 inTEST(Temptronic)高速溫度循環(huán)測(cè)試機(jī)，離子蝕刻機(jī)，真空鍍膜系統(tǒng)及配套真空零配件等。
上海伯東作為真空品牌**代理商，全權(quán)負(fù)責(zé)在中國地區(qū)的銷售和維修服務(wù)，* 使用原廠進(jìn)口零部件以及國外受訓(xùn)維修工程師；擁有*的拆解，維修，校正能力并提供24小時(shí)在線服務(wù)。

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德國 Pfeiffer 真空產(chǎn)品, 美國 inTEST 高低溫測(cè)試機(jī), 美國 Ambrell 感應(yīng)加熱, 美國 Polycold 冷凍機(jī),美國 HVA 真空閥門

產(chǎn)品簡介在線詢價(jià)

上海伯東代理美國考夫曼博士設(shè)立的考夫曼公司 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場上高效, 提供高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6“
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A

上海伯東代理美國 KRI 霍爾離子源 eH 3000 產(chǎn)品信息

KRI 霍爾離子源 eH 3000
上海伯東代理美國進(jìn)口 KRI 霍爾離子源 eH 3000 適合大型真空系統(tǒng), 與友廠大功率離子源對(duì)比, eH 3000 是目前市場上高效, 提供更高離子束流的離子源.
尺寸: 直徑= 9.7“ 高= 6”
放電電壓 / 電流: 50-300V / 20A
操作氣體: Ar, Xe, Kr, O2, N2, 有機(jī)前體

KRI 霍爾離子源 eH 3000 特性
• 水冷 - 加速冷卻
• 可拆卸陽極組件 - 易于維護(hù); 維護(hù)時(shí),大限度地減少停機(jī)時(shí)間; 即插即用備用陽極
• 寬波束高放電電流 - 高電流密度; 均勻的蝕刻率; 刻蝕效率高; 高離子輔助鍍膜 IAD 效率
• 多用途 - 適用于 Load lock / 超高真空系統(tǒng); 安裝方便
• 等離子轉(zhuǎn)換和穩(wěn)定的功率控制

KRI 霍爾離子源 eH 3000 技術(shù)參數(shù)

型號(hào)	eH3000 / eH3000L / eH3000M / eH3000LE
供電	DC magnetic confinement
- 電壓	50-250V VDC
- 離子源直徑	~ 7 cm
- 陽極結(jié)構(gòu)	模塊化
電源控制	eHx-25020A
配置	-
- 陰極中和器	Filament, Sidewinder Filament or Hollow Cathode
- 離子束發(fā)散角度	> 45° (hwhm)
- 陽極	標(biāo)準(zhǔn)或 Grooved
- 水冷	前板水冷
- 底座	移動(dòng)或快接法蘭
- 高度	4.0'
- 直徑	5.7'
- 加工材料	金屬電介質(zhì) 半導(dǎo)體
- 工藝氣體	Ar, Xe, Kr, O2, N2, Organic Precursors
- 安裝距離	16-45”
- 自動(dòng)控制	控制4種氣體

* 可選: 可調(diào)角度的支架;

KRI 霍爾離子源 eH 3000 應(yīng)用領(lǐng)域
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
輔助鍍膜 ( 光學(xué)鍍膜 ) IBAD
表面改性, 激活 SM
直接沉積 DD

1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源, 霍爾離子源和射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專li. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

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上海伯東: 羅先生