DS-2000/14G型光刻機

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微控設(shè)備

產(chǎn)品名稱：DS-2000/14G型光刻機主要技術(shù)指標：單次曝光面積：1.4mm×1mm曝光基片：100mm×100mm對準精度：±0.8μm（半自動對準）膠厚：300μm（SU8膠）自動逐場對焦

DS-2000/14G型光刻機產(chǎn)品信息

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產(chǎn)品名稱：DS-2000/14G型光刻機
主要技術(shù)指標：
單次曝光面積：1.4mm×1mm
曝光基片：100mm ×100mm
對準精度：±0.8μm（半自動對準）
膠厚：300μm（SU8膠）
自動逐場對焦；
分辨力：1μm；
X、Y、Z、θ四自由度電動位移臺
X、Y平移重復定位精度：0.65μm（3σ）
Z向運動精度：1μm
技術(shù)特點：
該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源，用DMD數(shù)字微鏡陣列替代傳統(tǒng)掩模板，采用積木錯位蠅眼透鏡實現(xiàn)高均勻照明，并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統(tǒng)（可同時使用），拼接獲得大面積圖形，曝光設(shè)定采用微機控制，菜單界面友好，操作簡便。