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在前面的一些指紋門禁一體機(jī)中描述了計(jì)算某圖像塊的平均紋路周期的方法,指紋圖像的平均周期可以計(jì)算為前景圖像塊的紋路周期的平均值,但其中計(jì)算特定圖像塊的平均周期時(shí)投影窗口的尺寸遠(yuǎn)大于圖像塊的尺寸,紋路方向可能會(huì)在投影窗口中發(fā)生較大變化,從而影響平均周期的正確計(jì)算;另一方面,投影窗口的尺寸遠(yuǎn)大于圖像塊的尺寸會(huì)使得圖像塊被重復(fù)投影,也會(huì)影響平均周期的正確計(jì)算。鑒于此,本節(jié)首先將指紋圖像JA6分為不相交的尺寸較大的的矩形區(qū)域,并計(jì)算每一區(qū)域P的局部周期信息,然后根據(jù)局部周期信息計(jì)算平均周期。計(jì)算局部周期信息的基本方法是:先計(jì)算出一條穿過(guò)該區(qū)域中心的曲線,使該曲線上每一點(diǎn)(,y)的切線方向和o(,7)垂直,只考慮曲線上位于區(qū)域W內(nèi)的曲線段。在前面的一些實(shí)驗(yàn)中給出了指紋平均周期的計(jì)算方法以及基于平均周期的分類方法。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:基于平均周期的系統(tǒng)穿透系數(shù)小于H叫模式理想情況下的系統(tǒng)穿透系數(shù)。使用平均周期的一個(gè)好處是:對(duì)于任何指紋都能計(jì)算出平均周期,不會(huì)被拒絕分類:而Henv模式下對(duì)于沒(méi)有核心點(diǎn)的圖像將會(huì)被拒絕分類。另一個(gè)好處是:使用平均周期分類時(shí)類與類之間的距離可度量,可以使用平均周期之差作為距離,從而在數(shù)據(jù)庫(kù)中搜索與輸入指紋匹配的指紋時(shí)可以從與輸入指紋距離最小的類開始進(jìn)行理索;而H。呵模式下類與類之間的距離不可度量。第三個(gè)好處是:平均周期可以容易地和其他特征結(jié)合在一起進(jìn)行指紋分類。
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SAMPE中國(guó)第二十屆國(guó)際先進(jìn)復(fù)合材料展覽會(huì)
展會(huì)城市:北京市展會(huì)時(shí)間:2025-06-18