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          鄭州科探儀器設備有限公司


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          小型高溫真空蒸鍍儀

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          參  考  價:38600
          具體成交價以合同協(xié)議為準
          • 產品型號

            KT-Z1650CVD

          • 品牌

            鄭科探

          • 廠商性質

            生產商

          • 所在地

            鄭州市

          規(guī)格

          38600元 99臺可售

          聯(lián)系方式:張正敏查看聯(lián)系方式

          更新時間:2024-08-02 14:11:31瀏覽次數(shù):141次

          聯(lián)系我時,請告知來自 智能制造網

          經營模式:生產廠家

          商鋪產品:100條

          所在地區(qū):河南鄭州市

          聯(lián)系人:張正敏 (銷售)

          產品簡介

          小型高溫真空蒸鍍儀:是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖 小功能齊全。配備 7 寸觸摸屏人工界面,具有電流時間工藝儲存功 能。配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節(jié),及自動電動 樣品擋板功能。通過定時調節(jié)預熱功率及蒸發(fā)功率,可對大部分金屬和有機物進行均勻蒸發(fā)沉積。真空腔 室為透明玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄 膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。

          詳細介紹

          小型高溫真空蒸鍍儀

          是一款小型多功能鍍膜儀,額定1800度高溫,自動樣品擋板,靶臺旋轉,觸摸屏多段控制,工藝儲存等功能。

          空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程:

          1)加熱蒸發(fā)過程:包括由凝聚相轉變?yōu)闅庀嗟倪^程,每種蒸發(fā)物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。(2)氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運輸,即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。

          3)蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā),凝聚,成核,核生長,形成連續(xù)的膜。由于基板溫度低于基板溫度遠低于蒸發(fā)源溫度,因此,氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉變過程。

          小型高溫真空蒸鍍儀技術參數(shù)

          控制方式

          7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

          加熱方式

          數(shù)字式功率調整器

          鍍膜功能

          0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

          功率

          ≤1200W

          輸出電壓電流

          電壓≤12V 電流≤120A

          真空度

          機械泵 ≤5Pa5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa

          擋板類型

          電控

          真空腔室

          石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

          樣品臺

          可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)

          樣品臺轉速

          8/分鐘

          樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離

          70-140mm

          蒸發(fā)溫度調節(jié)

          ≤1800℃

          支持蒸發(fā)坩堝類型

          鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩

          預留真空接口

          KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口

          可選配擴展

          機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa

          數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

          分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa


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