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          鄭州科探儀器設(shè)備有限公司


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          金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測(cè)

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          參  考  價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          產(chǎn)品型號(hào)

          品       牌

          廠商性質(zhì)其他

          所  在  地鄭州市

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          更新時(shí)間:2024-05-03 13:16:27瀏覽次數(shù):90次

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          產(chǎn)品簡(jiǎn)介

          金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測(cè),7寸人機(jī)界面,自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制,功率1000w直流磁控濺射

          詳細(xì)介紹

          金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測(cè),7寸人機(jī)界面,自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制,功率1000w直流磁控濺射

          單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等

          單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。

          所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。

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          金屬鍍膜磁控濺射薄膜監(jiān)測(cè)技術(shù)參數(shù);

          控制方式

          7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制

          濺射電源

          直流濺射電源

          鍍膜功能

          0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

          功率

          ≤1000W

          輸出電壓電流

          電壓≤1000V  電流≤1A

          真空

          機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

          濺射真空

          ≤30Pa

          擋板類型

          電控

          真空腔室

          不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

          樣品臺(tái)

          可旋轉(zhuǎn)φ62  (可安裝φ50基底)

          樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速

          8轉(zhuǎn)/分鐘

          樣品濺射源調(diào)節(jié)距離

          40-105mm

          真空測(cè)量

          皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

          預(yù)留真空接口

          KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進(jìn)氣口






          關(guān)鍵詞:人機(jī)界面

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