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陜西毅杰惠誠(chéng)科學(xué)儀器有限公司
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所 在 地西安市
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更新時(shí)間：2024-03-20 17:08:07瀏覽次數(shù)：146次
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小型磁控濺射適用于實(shí)驗(yàn)室制備金屬單質(zhì)、氧化物、介電質(zhì)、半導(dǎo)體膜、掃描電鏡制樣電極材料制備等，也可用作教學(xué)及生產(chǎn)線前期工藝試驗(yàn)等，整套設(shè)備操作簡(jiǎn)便，占地小寬550*深900mm，適合及滿足大專院校的教學(xué)與科研工作。詳細(xì)的技術(shù)方案微信：
設(shè)備功能
設(shè)備使用角度可調(diào)節(jié)靶槍，靶槍高度、角度可以調(diào)節(jié)。通過(guò)調(diào)節(jié)靶槍高度和角度，可以優(yōu)化濺射均勻性以及臺(tái)階覆蓋率。
*采用共焦濺射結(jié)構(gòu)，優(yōu)點(diǎn)：
*小靶槍濺射大工件，2-3英寸靶槍濺射3-4英寸工件。
*共焦濺射特別適合鍍制需要臺(tái)階覆蓋的工件，通過(guò)調(diào)整角度可調(diào)靶槍的傾斜角度，可以調(diào)節(jié)臺(tái)階覆蓋率。
*工藝氣體從真空室抽氣口前部通入靶面，抽氣口位于真空室側(cè)部，保證整個(gè)真空室內(nèi)反應(yīng)氣體濃度穩(wěn)定一致。
二．設(shè)備技術(shù)指標(biāo)
1.極限真空：優(yōu)于3E-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）；
2.抽速測(cè)試：從大氣抽到工作真空（5E-4Pa）時(shí)間少于30分鐘；
3.系統(tǒng)漏率：≤2x10-7Pa.l/S(以氦質(zhì)譜檢漏儀測(cè)試指標(biāo)考核）；
4.系統(tǒng)保壓：系統(tǒng)抽至高真空后停泵關(guān)機(jī)保壓12小時(shí)后真空度小于10Pa;
5.濺射靶槍：可配備2支2英寸靶槍或2支3英寸靶槍；
6.基片加熱：襯底加熱溫度500℃，室溫至200度精度:±3°C，300度至500度精度:±1.5°C；樣品臺(tái)可加負(fù)偏壓-800V；
7.濺射尺寸：襯底基片4英寸，兼容4英寸、2英寸、Φ45mm、Φ30mm，以及小尺寸方形片（對(duì)角線長(zhǎng)度小于45mm）?；D(zhuǎn)速度：5～25rpm連續(xù)可調(diào)；
8.成膜質(zhì)量：托盤(pán)3英寸范圍內(nèi)均勻性優(yōu)于±4%；
詳細(xì)的技術(shù)方案，歡迎致電或者微信技術(shù)交流：；
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