山東聯(lián)盛電子設(shè)備有限公司，成立于2014年5月，坐落于聊城市高唐經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)，是集半導(dǎo)體芯片濕制程專業(yè)的設(shè)備的生產(chǎn)、研發(fā)、銷售、服務(wù)于一體的綜合性高科技公司。公司已經(jīng)和山東大學(xué)微電子學(xué)院清洗技術(shù)中心加強(qiáng)產(chǎn)學(xué)研合作，共同深度研發(fā)清洗技術(shù)。公司目前已申請(qǐng)國家30多項(xiàng)，其中發(fā)明6項(xiàng)，并建立了省級(jí)企業(yè)技術(shù)中心，市級(jí)企業(yè)，市級(jí)半導(dǎo)體設(shè)備研發(fā)中心，申請(qǐng)通過ISO9001質(zhì)量體系認(rèn)證，ISO14001質(zhì)量環(huán)境體系認(rèn)證，半導(dǎo)體SEMI-S2專業(yè)認(rèn)證。涉及行業(yè)有半導(dǎo)體IC，MOS功率器件，MEMS, SOI, GaAs, GPP，SIC，CaN芯片，LED，光伏，半導(dǎo)體陶瓷基片，半導(dǎo)體玻璃基片等行業(yè) 。主要設(shè)備有：全自動(dòng)RCA清洗機(jī)、全自動(dòng)鍍鎳鍍金清洗機(jī)、全自動(dòng)擴(kuò)散清洗機(jī)（磷擴(kuò)，硼擴(kuò)）、全自動(dòng)溝槽蝕刻機(jī)、全自動(dòng)二氧化硅蝕刻、爐管清洗機(jī)、CDS(SDS)系統(tǒng)，B Clean、Oxide Remove、 Nitride Remove、 PR Strip、lift off、 ParticleRemove、 Solvent Clean、Wafer Reclaim、 Metal Etch、M2 Clean。
成立時(shí)間：2014年5月4日[已認(rèn)證]
注冊(cè)資本： 1002萬元
[已認(rèn)證]
經(jīng)營范圍：半導(dǎo)體器件專用設(shè)備制造；電子專用設(shè)備制造；工業(yè)自動(dòng)控制系統(tǒng)裝置制造；集成電路芯片及產(chǎn)品制造；電力電子元器件制造；半導(dǎo)體器件專用設(shè)備銷售；電子專用設(shè)備銷售；電工儀器儀表銷售；電力電子元器件銷售；專用設(shè)備修理；機(jī)械設(shè)備研發(fā)；軟件開發(fā)；技術(shù)服務(wù)、技術(shù)開發(fā)、技術(shù)咨詢、技術(shù)交流、技術(shù)轉(zhuǎn)讓、技術(shù)推廣；技術(shù)推廣服務(wù)。（依法須經(jīng)批準(zhǔn)的項(xiàng)目，經(jīng)相關(guān)部門批準(zhǔn)后方可開展經(jīng)營活動(dòng)）[已認(rèn)證]
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