當(dāng)前位置：筱曉（上海）光子技術(shù)有限公司>>加工定制產(chǎn)品>>大型儀器設(shè)備>>無(wú)掩膜數(shù)字光刻機(jī) 波長(zhǎng)365nm 分辨率1.0um 灰度光刻64levels

無(wú)掩膜數(shù)字光刻機(jī) 波長(zhǎng)365nm 分辨率1.0um 灰度光刻64levels

返回列表頁(yè)

參考價(jià)

面議

具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

產(chǎn)品型號(hào)

品牌

廠商性質(zhì)其他

所在地上海市

在線詢價(jià) 收藏產(chǎn)品查看聯(lián)系電話

聯(lián)系方式：關(guān)嘉玉查看聯(lián)系方式

更新時(shí)間：2024-06-08 11:40:42瀏覽次數(shù)：121次

聯(lián)系我時(shí)，請(qǐng)告知來(lái)自智能制造網(wǎng)

產(chǎn)品分類 品牌分類

暫無(wú)信息

筱曉（上海）光子技術(shù)有限公司

經(jīng)營(yíng)模式：其他

商鋪產(chǎn)品：1266條

所在地區(qū)：

聯(lián)系人：關(guān)嘉玉

詢價(jià) 給他留言

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

筱曉光子無(wú)掩膜數(shù)字光刻機(jī)MCML-110A總覽產(chǎn)品特點(diǎn)采用數(shù)字微鏡(DMD)的無(wú)掩膜掃描式光刻機(jī)，365nm波長(zhǎng)直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過(guò)程，支持直接讀取GDSII和BMP文件全自動(dòng)化的對(duì)焦和套刻，易于使用晶圓連續(xù)運(yùn)動(dòng)配合DMD動(dòng)態(tài)曝光，無(wú)拼接問(wèn)題

詳細(xì)介紹

筱曉光子無(wú)掩膜數(shù)字光刻機(jī) MCML-110A

總覽

產(chǎn)品特點(diǎn)

采用數(shù)字微鏡 (DMD) 的無(wú)掩膜掃描式光刻機(jī)，365nm波長(zhǎng)

直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過(guò)程，支持直接讀取GDSII和BMP文件

全自動(dòng)化的對(duì)焦和套刻，易于使用

晶圓連續(xù)運(yùn)動(dòng)配合DMD動(dòng)態(tài)曝光，無(wú)拼接問(wèn)題。全幅面定位精度0.1um

套刻精度： 0.2um

500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm大幅面（4~6寸晶圓），滿幅面曝光時(shí)間5~30分鐘

500um小線寬

可灰度曝光（128階）

尺寸小巧，可配合用循環(huán)裝置產(chǎn)生內(nèi)部潔凈空間

通用參數(shù)

應(yīng)用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工

帶有2.5D圖案的微光學(xué)元件，衍射光器件制作

教學(xué)、科研

參數(shù)

	MCML-110A	MCML-120A
Wavelength 波長(zhǎng)	365nm	365nm
Max. frame 大幀	100mm x 100mm	100mm x 100mm
Resolution 分辨率	1.0um	500nm
Grayscale lithography 灰度光刻	64 levels	128 levels
Max exposure 大曝光量	500mJ/cm2	2000mJ/cm2
Alignment accuracy 對(duì)準(zhǔn)精度	<200nm	<100nm
field curvature 場(chǎng)曲率	< 1 um	< 1 um
Speed 速度	5mm2 /sec	2.5mm2 /sec
Input file 輸入文件	BMP, GDSII	BMP, GDSII
Z level accuracy Z精度	<1 um	<1 um
Environment 環(huán)境	20~25℃	20~25℃

樣品

（SU8-2002, 2um膠厚，2寸硅基底）

總覽