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365nm 無掩膜數(shù)字光刻機(jī) 分辨率500nm 幀數(shù)100mmx100mm

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筱曉（上海）光子技術(shù)有限公司

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產(chǎn)品簡介

筱曉光子無掩膜數(shù)字光刻機(jī)MCML-120A總覽產(chǎn)品特點(diǎn)采用數(shù)字微鏡(DMD)的無掩膜掃描式光刻機(jī)，365nm波長直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過程，支持直接讀取GDSII和BMP文件全自動化的對焦和套刻，易于使用晶圓連續(xù)運(yùn)動配合DMD動態(tài)曝光，無拼接問題

詳細(xì)介紹

筱曉光子無掩膜數(shù)字光刻機(jī) MCML-120A

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產(chǎn)品特點(diǎn)

采用數(shù)字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機(jī)，365nm波長

直接從數(shù)字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過程，支持直接讀取GDSII和BMP文件

全自動化的對焦和套刻，易于使用

晶圓連續(xù)運(yùn)動配合DMD動態(tài)曝光，無拼接問題。全幅面定位精度0.1um

套刻精度： 0.2um

500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm大幅面（4~6寸晶圓），滿幅面曝光時(shí)間5~30分鐘

500um小線寬

可灰度曝光（128階）

尺寸小巧，可配合用循環(huán)裝置產(chǎn)生內(nèi)部潔凈空間

通用參數(shù)

應(yīng)用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工

帶有2.5D圖案的微光學(xué)元件，衍射光器件制作

教學(xué)、科研

參數(shù)

	MCML-110A	MCML-120A
Wavelength 波長	365nm	365nm
Max. frame 大幀	100mm x 100mm	100mm x 100mm
Resolution 分辨率	1.0um	500nm
Grayscale lithography 灰度光刻	64 levels	128 levels
Max exposure 大曝光量	500mJ/cm2	2000mJ/cm2
Alignment accuracy 對準(zhǔn)精度	<200nm	<100nm
field curvature 場曲率	< 1 um	< 1 um
Speed 速度	5mm2 /sec	2.5mm2 /sec
Input file 輸入文件	BMP, GDSII	BMP, GDSII
Z level accuracy Z精度	<1 um	<1 um
Environment 環(huán)境	20~25℃	20~25℃

樣品

（SU8-2002, 2um膠厚，2寸硅基底）

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