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          行業(yè)產(chǎn)品

          • 行業(yè)產(chǎn)品

          廣東駿楠光子科技有限公司


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          無掩膜激光直寫納米光刻機(jī)

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          參  考  價(jià):1000000 - 2000000 /件
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • 產(chǎn)品型號(hào)

            DALI-A/B

          • 品牌

            其他品牌

          • 廠商性質(zhì)

            生產(chǎn)商

          • 所在地

            廣州市

          聯(lián)系方式:曹經(jīng)理查看聯(lián)系方式

          更新時(shí)間:2023-08-18 11:33:22瀏覽次數(shù):2411次

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          經(jīng)營(yíng)模式:生產(chǎn)廠家

          商鋪產(chǎn)品:6條

          所在地區(qū):廣東廣州市

          聯(lián)系人:曹經(jīng)理 (銷售經(jīng)理)

          產(chǎn)品簡(jiǎn)介

          DALI是由Aresis、CENN Nano center 和 LPKF 聯(lián)合研發(fā)的高精度無掩膜納米光刻機(jī),是一款性能穩(wěn)定,操作簡(jiǎn)單,對(duì)環(huán)境要求低,界面友好,零維護(hù)的桌面型高精度激光直寫設(shè)備。其采用的是AOD聲光調(diào)制器來控制激光進(jìn)行高精度光刻,可以實(shí)現(xiàn)優(yōu)于80nm平滑的邊緣結(jié)構(gòu),100-150nm最小結(jié)構(gòu)間距,400nm套刻精度,是實(shí)驗(yàn)室級(jí)微納加工與器件制作專業(yè)設(shè)備。

          詳細(xì)介紹

          DALI是由Aresis、CENN  Nano  center  和  LPKF  聯(lián)合研發(fā)的高精度無掩膜納米光刻機(jī),是一款性能穩(wěn)定,操作簡(jiǎn)單,對(duì)環(huán)境要求低,界面友好,零維護(hù)的桌面型高精度激光直寫設(shè)備。其采用的是AOD聲光調(diào)制器來控制激光進(jìn)行高精度光刻,可以實(shí)現(xiàn)優(yōu)于80nm平滑的邊緣結(jié)構(gòu),100-150nm最小結(jié)構(gòu)間距,400nm套刻精度,是實(shí)驗(yàn)室級(jí)微納加工與器件制作專業(yè)設(shè)備。DALI憑借優(yōu)異的性能,目前已廣泛應(yīng)用到微電子、微器件、納米光學(xué)、材料科學(xué)、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域。


          *的AOD技術(shù),定位分辨率優(yōu)于0.1nm

          • A. 可以獲得任意平滑、銳利的結(jié)構(gòu)邊緣

          • 1660753138558376.jpg

          • B. 可高分辨調(diào)整特征結(jié)構(gòu)間的距離

          • 1660753321812584.jpg

          • C. 可以實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)精細(xì)結(jié)構(gòu)的構(gòu)建

          • 1660753355940409.jpg


          主要特點(diǎn):

          最小特征結(jié)構(gòu)小于1μm

          針對(duì)I-line光刻膠進(jìn)行優(yōu)化(SU-8,AZ,……)

          超快與超高精度定位,光斑定位分辨率<1nm

          可構(gòu)建高深寬比結(jié)構(gòu)(可達(dá)10:1)

          # 12nm-1μm光斑間距調(diào)節(jié)以獲得超高平滑度

          # 100-150nm最小結(jié)構(gòu)間距

          # 400nm套刻精度

          適用于從CAD設(shè)計(jì)到各種結(jié)構(gòu)的快捷構(gòu)建

          具備非平表面直寫能力


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