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Lambda顯微高光譜成像系統(tǒng)

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更新時間：2023-04-06 10:21:50瀏覽次數(shù)：235次

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Lambda顯微高光譜成像系統(tǒng)

Lambda高光譜成像系統(tǒng)

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長春長光辰譜科技有限公司

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產(chǎn)品簡介

產(chǎn)品描述 Lambda顯微高光譜成像系統(tǒng)可適配于市場上的大部分顯微鏡，其高光譜系統(tǒng)結(jié)構(gòu)由面陣探測器、驅(qū)動電源、運動控制模塊、數(shù)據(jù)采集模塊等集成于一體，無需電動位移臺，大大減小了系統(tǒng)的體積與重量，外觀簡潔，與顯微鏡搭配使用操作簡單、方便。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品描述

Lambda顯微高光譜成像系統(tǒng)可適配于市場上的大部分顯微鏡，其高光譜系統(tǒng)結(jié)構(gòu)由面陣探測器、驅(qū)動電源、運動控制模塊、數(shù)據(jù)采集模塊等集成于一體，無需電動位移臺，大大減小了系統(tǒng)的體積與重量，外觀簡潔，與顯微鏡搭配使用操作簡單、方便。

產(chǎn)品介紹

產(chǎn)品性能

應(yīng)用案例

生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域

可應(yīng)用于腫瘤細(xì)胞的判別、出血肉的判別、肉白班的識別、淋巴細(xì)胞白血病的篩查、細(xì)胞質(zhì)和細(xì)胞核的區(qū)分、細(xì)胞數(shù)的計算等。

基于顯微高光譜的喉部黏膜出血肉和肉白斑區(qū)域快速識別（紅色區(qū)域）

20倍目鏡下顯微高光譜判別腫瘤位置及異常細(xì)胞擴(kuò)散位置

基于顯微高光譜計算細(xì)胞核、細(xì)胞質(zhì)和其他物質(zhì)的快速區(qū)分根據(jù)細(xì)胞質(zhì)心位置計算細(xì)胞數(shù)目（一共402個）

暗場散射納米顆粒檢測

暗場顯微是在暗場照明下實現(xiàn)的一種特殊顯微手法，可以避免與被觀測物體無關(guān)的光線進(jìn)入物鏡，在暗背景中呈現(xiàn)清晰的物體輪廓。應(yīng)用該方法可見到小至4~200nm的微粒子，分辨率可比普通明場照明顯微法高50倍。搭載高光譜成像系統(tǒng)的顯微鏡可判別其微粒子種類等。

圖中是在單次氣管內(nèi)滴注低（18 pg）和高（162 pg）納米后，對來自小鼠的肺組織進(jìn)行VNIR高光譜成像，以確定這些組織中的顆粒滯留位置。

納米暴露組織的暗場圖像（上圖）

來自納米暴露組織的暗場高光譜圖像識別出這些納米顆粒，他們表現(xiàn)為白色包裹體的聚集體（中圖）

這些組織中納米在高光譜圖顯示為紅點或聚集體（下圖）

OLED顯示屏發(fā)光測試

顯微高光譜成像系統(tǒng)通過不同倍數(shù)的目鏡，可以獲取更高空間分辨率的OLED顯示屏的發(fā)光圖像，通過高光譜圖像數(shù) 據(jù)"圖譜合一"的特點檢測OLED顯示屏發(fā)光的均勻性及穩(wěn)定性。

20X、50X和100X下檢測OLED顯示屏的發(fā)光情況

晶片材料、缺陷檢測

無接觸、無損傷、快速準(zhǔn)確的微區(qū)測量技術(shù)，可在室溫下操作，也可以在生產(chǎn)中進(jìn)行在線測量，可得到整個晶片的PL Mapping,從而可得到襯底或外延層的組分配比、缺陷以及材料其他屬性的微區(qū)均勻性的重要信息?；陲@微高光譜成像技術(shù)可在細(xì)微尺度上鑒別晶片的材質(zhì)以及樣品發(fā)光中心濃度的變化等。

植入硼、鋁以及無植入特殊材質(zhì)下晶片在顯微鏡高光譜成像系統(tǒng)下的圖像及光譜

鈣鈦礦晶體中的應(yīng)用

顯微高光譜成像系統(tǒng)在鈣鈦礦晶體材料不均一性問題的檢測與傳統(tǒng)檢測技術(shù)如共聚焦顯微成像等相比，具有以下優(yōu)點：單次整視場成像；在PL成像實驗中該系統(tǒng)的激發(fā)光源在視野中的強度是均勻分布的；可獲得光譜強度的定量值。

鈣鈦礦PL數(shù)據(jù)。圖（a）和（b）顯示了分別在625nm和750nm處拍攝的兩張不同的單色PL圖像

圖（c）為圖1中不同位置的光譜圖

圖（d）為區(qū)域PL圖譜頻移成像圖

LED/OLED光源顯示屏上的應(yīng)用

顯微高光譜技術(shù)逐漸在半導(dǎo)體材料和器件的測試領(lǐng)域得到應(yīng)用。顯微高光譜成像技術(shù)目前主要應(yīng)用于半導(dǎo)體材料發(fā)光均勻性研究，對半導(dǎo)體材料的缺陷進(jìn)行檢測分析，對LED芯片表面溫度空間分布等。