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鄭州科探儀器設備有限公司
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直流磁控濺射儀金屬濺射，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。
鄭州科探儀器設備是高質量定制物理 氣相沉積（PVD）系統的設計者和制造商，客戶服務和售后服務出色。擁有7年以上真空和薄膜沉積技術經驗。其研發(fā)團隊在學界科學家和工程師的支持下，高度積極地開發(fā)新設計以滿足客戶的特殊要求。
鄭科探的工程團隊設計和制造的組件符合高質量標準。KT-Z1650PVD真空鍍膜機已通過分銷商銷往許多大學和研究中心，并得到了很好的參考和反饋。
儀器描述：
直流磁控濺射儀金屬濺射，能夠在非導電或導電不良的樣品上涂布金（Au），鈀（Pd），鉑（Pt）和金/鈀（Au / Pd）的薄膜。 在較短時間內即可形成具有細粒度的均勻薄膜，使樣品適用于掃描電子顯微鏡（SEM）分析。儀器結構緊湊，全自動控制，設計符合人體工程學，所得結果一致，可重復性高。
產品特點：
• 彩色觸摸屏：數據輸入簡單快速
• 通過觸摸屏中直觀檢測數據和曲線；歷史頁面可顯示歷史涂層信息。
• 可控鍍膜速率，可得到更精細的晶粒結構
• 可手動或自動，根據時間或根據厚度進行濺射
• 樣品臺更換簡單：標準旋轉樣品臺或選用行星式旋轉樣品臺。標準樣品臺高度可調、可傾斜、可旋轉；行星式旋轉樣品臺為多孔樣品帶來好的噴金效果。
直流磁控濺射儀金屬濺射技術參數；
控制方式 | 7寸人機界面 手動 自動模式切換控制 |
濺射電源 | 直流濺射電源 |
鍍膜功能 | 0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序 |
功率 | ≤1000W |
輸出電壓電流 | 電壓≤1000V 電流≤1A |
真空 | 機械泵 ≤5Pa（5分鐘） 分子泵≤5*10^-3Pa |
濺射真空 | ≤30Pa |
擋板類型 | 電控 |
真空腔室 | 石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm |
樣品臺 | 可旋轉φ62 （可安裝φ50基底） |
樣品臺轉速 | 8轉/分鐘 |
樣品濺射源調節(jié)距離 | 40-105mm |
真空測量 | 皮拉尼真空計（已安裝 測量范圍10E5Pa 1E-1Pa） |
預留真空接口 | KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口 |
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