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氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐

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氣相沉積技術(shù)是利用氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過(guò)程，在工件表面形成功能性或裝飾性的金屬、非金屬或化合物涂層

詳細(xì)介紹

　　氣相沉積技術(shù)是利用氣相中發(fā)生的物理、化學(xué)過(guò)程，在工件表面形成功能性或裝飾性的金屬、非金屬或化合物涂層。氣相沉積技術(shù)按照成膜機(jī)理，可分為化學(xué)氣相沉積、物理氣相沉積和等離子體氣相沉積。

　　1、化學(xué)氣相沉積（CVD）：將工件置于反應(yīng)室中，抽真空并加熱至900~1100℃。如要涂覆TiC層，則將鈦以揮發(fā)性氯化物（如TiCl4）與氣體碳?xì)浠衔铮ㄈ鏑H4）一起通入反應(yīng)室內(nèi)，這時(shí)就會(huì)在工表面發(fā)生化學(xué)反應(yīng)生成TiC，并沉積在工件表面形成6~8μm厚的覆蓋層。工件經(jīng)氣相沉積鍍覆后，再進(jìn)行淬火，回火處理，表面硬度可達(dá)到2000~4000HV。

　　2、物理氣相沉積（PVD）：物理氣相沉積是通過(guò)蒸發(fā)，電離或?yàn)R射等過(guò)程，產(chǎn)生金屬粒子并與反應(yīng)氣體反應(yīng)形成化合物沉積在工件表面。物理氣象沉積方法有真空鍍，真空濺射和離子鍍?nèi)N，目前應(yīng)用較廣的是離子鍍。離子鍍是借助于惰性氣體輝光放電，使鍍料氣化蒸發(fā)離子化，離子經(jīng)電場(chǎng)加速，以較高能量轟擊工件表面，此時(shí)如通入CO2，N2等反應(yīng)氣體，便可在工件表面獲得TiC,TiN覆蓋層，硬度高達(dá)2000HV。離子鍍的重要特點(diǎn)是沉積溫度只有500℃左右，且覆蓋層附著力強(qiáng)，適用于高速鋼工具，熱鍛模等。

　　氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐為沉積爐主體內(nèi)有加熱室，水冷電極，測(cè)溫?zé)犭娕?，是處理工件的核心部分?/span>

　　氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)以及特點(diǎn)：

　　氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐采用多溫區(qū)獨(dú)立控溫，溫度均勻性好；

　　氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐采用特殊結(jié)構(gòu)沉積室，密封效果好，抗污染能力強(qiáng)；

　　氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無(wú)沉積死角，沉積效果好；

　　氣相沉積實(shí)驗(yàn)爐對(duì)炭沉積過(guò)程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機(jī)氣體等能進(jìn)行有效處理。