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EDX-600能量色散X射線熒光光譜儀

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更新時(shí)間：2023-05-04 09:34:34瀏覽次數(shù)：283次

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  X射線熒光光譜儀
  X熒光膜厚儀

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惠州美勝儀器有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

EDX-600能量色散X射線熒光光譜儀●美國(guó)原裝高靈敏電制冷Si(Pin)探測(cè)器●電制冷Si(Pin)探測(cè)器晶體面積15mm2分辨率●全數(shù)字脈沖處理器技術(shù)●優(yōu)異的峰背比、的痕量分析靈敏度●50KV,50瓦,自防護(hù)X-射線管●多濾光片智能識(shí)別技術(shù)●鍍層和薄膜測(cè)量技術(shù)●高性能

詳細(xì)介紹

EDX-600能量色散X射線熒光光譜儀

●美國(guó)原裝高靈敏電制冷Si(Pin)探測(cè)器

●電制冷Si(Pin)探測(cè)器晶體面積15mm2分辨率<155eV
●全數(shù)字脈沖處理器技術(shù)

●優(yōu)異的峰背比、的痕量分析靈敏度

● 50KV,50瓦,自防護(hù)X-射線管

●多濾光片智能識(shí)別技術(shù)

●鍍層和薄膜測(cè)量技術(shù)
●高性能，操作簡(jiǎn)便的XRF軟件
主要特點(diǎn)
●分析元素范圍　Cl－Ｕ
●分析元素的濃度范圍　ppm—99%
●整機(jī)穩(wěn)定性連續(xù)8小時(shí)測(cè)RSD<0.25%
● RoHS/WEEE檢測(cè)時(shí)間100-120秒
●樣品類型：固體，液體，粉末，鍍層及其他..
應(yīng)用領(lǐng)域：
●應(yīng)對(duì)RoHS & WEEE指令分析
●各種金屬膜厚度測(cè)量、工業(yè)鍍層厚度測(cè)量
●鹵素指令Cl元素分析
●礦石、原材料成份分析等
●磁性磁性介質(zhì)和半導(dǎo)體，各種合金、貴金屬成份分析

技術(shù)規(guī)格

儀器型號(hào)		EDX-600能量色散X射線熒光光譜儀
分析原理		能量色散X射線熒光分析法
分析范圍		Na(11)-U(92)任意元素
檢出下限		Cl/Cd/Hg/Br/Cr/Pb≤2 ppm
樣品形狀		任意大小，任何不規(guī)則形狀
樣品類型		塑膠/金屬/薄膜/粉末/液體等
X射線管	靶材	鉬（Mo）靶
	管電壓	5─50KV
	管電流	1─1000ｕA
探測(cè)器		美國(guó)AMP-TEK X-123 Si-PIN探測(cè)器，高速脈沖高度分析系統(tǒng)
高壓發(fā)生器		美國(guó)SPELLMAN高壓發(fā)生器
濾光片		8種濾光片自動(dòng)選擇并自動(dòng)轉(zhuǎn)換
樣品觀察		500萬(wàn)彩色攝像機(jī)
分析軟件		軟件產(chǎn)品 MS-V6.0版本，升級(jí)
分析方法		Alpha系數(shù)法（NBS-GSC法）、FP法、標(biāo)準(zhǔn)曲線法
符合規(guī)范		IEC62321、 SNT 2003.4-2006 、SNT 2003.5-2006