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等離子清洗機直噴臥式單機

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更新時間：2022-12-13 10:21:56瀏覽次數(shù)：158次

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深圳子柒科技有限公司

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所在地區(qū)：廣東深圳市

聯(lián)系人：熊生（營銷經(jīng)理）

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產(chǎn)品簡介

離子體清洗機又稱等離子表面處理機，是一種新型的高科技技術(shù)，利用等離子體達到常規(guī)清洗方法無法達到的效果。等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，又稱物質(zhì)的第四種狀態(tài)，不屬于常見的固液氣三種狀態(tài)。向氣體施加足夠的能量，使其離化成等離子體狀態(tài)。等離子體的“活性"成分包括離子、電子、原子、活性基團、激發(fā)核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子體清洗機利用這些活性成分的性質(zhì)來處理樣品表面，從而達到清潔和涂層的目的。

詳細介紹

主要用途：

1、清洗納米產(chǎn)品；

2、蝕刻光刻膠，除渣、硅片清洗；

3、引線鍵合倒裝芯片底部填充，器件的封裝和解封；

4、PDMS/微流控/載玻片/芯片實驗；

5、改善金屬與金屬或復(fù)合材料的結(jié)合；

6、啟動聚合物上的官能團，實現(xiàn)親水或疏水潤濕性，增加粘合強度和可印刷性，促進醫(yī)療設(shè)備的生物相容性。

美國CIF公司生產(chǎn)的等離子清洗機(plasma cleaner）不僅外觀設(shè)計美觀、而且內(nèi)在質(zhì)量過硬，產(chǎn)品性能穩(wěn)定可靠。

工作原理

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài)，通常物質(zhì)以固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)三種狀態(tài)存在，但在一些特殊的情況下有第四種狀態(tài)存在，如地球大氣中電離層中的物質(zhì)。等離子體狀態(tài)中存在下列物質(zhì)：處于高速運動狀態(tài)的電子；處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團（自由基）；離子化的原子、分子；未反應(yīng)的分子、原子等，但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

等離子清洗機就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來處理樣品表面，通過射頻電源在一定的壓力情況下起輝產(chǎn)生高能量的無序的等離子體，通過等離子體轟擊被清洗產(chǎn)品表面，從而實現(xiàn)清潔、改性、光刻膠灰化等目的。

應(yīng)用領(lǐng)域

等離子清洗機在科學(xué)研究各方面已經(jīng)取得了廣泛的運用，涉及材料學(xué)，光學(xué)，電子學(xué)，醫(yī)藥學(xué)，環(huán)境學(xué)、生物學(xué)等不同領(lǐng)域，主要用于以下實驗：

產(chǎn)品功能：

清洗：工藝部件的表面通過離子束的物理轟擊而被清洗，也可與特定氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)從而被清洗，清洗掉的工藝污染物轉(zhuǎn)化為氣相被排出。

如：去除有機污染物，去除納米級微粒，去除氧化層。

活化：工藝部件表面通過氧氣或空氣處理后，會在表面形成氧原子團，這樣能使部件表面親水性和表面張力提高，能使涂料和粘接劑更好的附著于上，提高其的粘合力和附著力。

如：PDMS鍵合，粘接前的預(yù)處理，涂裝前的預(yù)處理，印刷前的預(yù)處理。

蝕刻：工藝部件表面通過特定氣體達到精確濺射，表面材料被剝離，轉(zhuǎn)變成氣相被排出，濺射后的材料表面積增大并更易濕潤，也使材料表面更粗糙化。通過改變工藝參數(shù)可使材料表面蝕刻出一定的形狀。

如：硅蝕刻，PTFE/PFA/FEP蝕刻，光刻膠去除。

涂層：使工藝部件表面發(fā)生等離子聚合反應(yīng)，前驅(qū)單體導(dǎo)入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面，隨即發(fā)生聚合反應(yīng)，形成聚合物層。

如：疏水層，親水層，保護/阻隔層，干潤滑層，疏油層。