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          行業(yè)產(chǎn)品

          • 行業(yè)產(chǎn)品

          河南諾巴迪材料科技有限公司


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          離子濺射儀

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          參  考  價(jià)面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)

          產(chǎn)品型號

          品       牌

          廠商性質(zhì)其他

          所  在  地

          聯(lián)系方式:蔡永國查看聯(lián)系方式

          更新時間:2022-10-14 12:49:16瀏覽次數(shù):166次

          聯(lián)系我時,請告知來自 智能制造網(wǎng)

          經(jīng)營模式:其他

          商鋪產(chǎn)品:28條

          所在地區(qū):

          聯(lián)系人:蔡永國

          產(chǎn)品簡介

          離子濺射儀

          詳細(xì)介紹


          設(shè)備簡介:

          NBD-LJ13離子濺射儀為掃描電鏡制作樣品而設(shè)計(jì),結(jié)構(gòu)簡單、操作使用直觀方便等特點(diǎn)。不需要很高的真空度就可以對掃描電鏡樣品進(jìn)行離子濺射,可作為掃描電鏡樣品鍍膜的基本設(shè)備。

          配置詳情

          產(chǎn)品型號:NBD-LJ13

          主要特點(diǎn)

          1.采用4C真空泵,各方面降噪,提升實(shí)驗(yàn)感受;

          2.標(biāo)配樣品室真空表和濺射電流表,實(shí)時顯示和監(jiān)控儀器狀態(tài);

          3.邊緣橡膠密封圈,長期使用不會出現(xiàn)影響樣品濺射室真空度的玻璃鐘罩“崩邊"現(xiàn)象。

          4.配置濺射電流控制器和微型真空氣閥。結(jié)合自動控制電路,輕松控制真空室壓強(qiáng)、電離電流,并可任意選擇所需電離氣體,以獲得很好的鍍膜效果;

          5.標(biāo)配Φ58mm x 0.12mm 大尺寸純金靶,濺射范圍更大;

          控制面板:

          真空表:真空度的計(jì)量單位mmHg或Pa相對應(yīng)的刻在表盤上,可方便的讀出工作室內(nèi)的真空度。

          電流表:顯示濺射電流值單位(mA)。

          微調(diào)閥(充氣閥):用于向工作室內(nèi)進(jìn)行充氣,

          試驗(yàn)按鈕:配合針閥設(shè)置,以便獲得滿意的濺射電流值(小于10mA)。

          濺射按鈕:當(dāng)“實(shí)驗(yàn)"按鈕電流小于10mA時,可以按“濺射"按鈕,對樣品進(jìn)行離子濺射。

          時間設(shè)定開關(guān):控制離子濺射時間,定時開關(guān)10~110S.

          電源開關(guān):控制儀器機(jī)箱電源及機(jī)械泵的通斷。

          高純石英真空腔體Φ130(內(nèi)118)*130mm

          樣品臺尺寸:Φ42mm

          樣品臺可調(diào)高度:75mm

          電氣規(guī)格

          AC220V 120W

          腔體尺寸

          Φ130(內(nèi)118)*130mm

          樣品臺尺寸

          Φ42mm

          樣品臺可調(diào)高度

          樣品臺可調(diào)高度:75mm

          樣品溫度

          <35~50

          適用靶材

          貴金屬AU、Pt、Pd合金AU-Pt、AU-Pb 常規(guī)金屬Cu、W、Ag 、Cr 等

          濺射速度

          一般來說,用于掃描樣品時金屬的厚度為100-300?,采用經(jīng)驗(yàn)法測定厚度,可由下面的公式得到

          d = KIVT

          其中: d:是鍍膜厚度(單位?)

          K:是常數(shù),取決于濺射金屬和所充氣體(采用金靶和氬氣時K為0.17,金靶和空氣K為0.07),此時靶與樣品之間的距離

          I: 是等離子流(單位mA)

          V:是所施電壓(單位kv)

          T“"是時間(單位s)。

          例如采用金靶和氬氣,l為8mA,T為100秒,V為1KV

          則, d = KIVT = 0. 17×8×l×100 = 136?

          即每秒1.36?

          濺射速度依賴于濺射系統(tǒng)本身的清潔程度,因此保護(hù)工作室的清潔十分重要。

          其它金屬靶的濺射速度,例如鉑靶大約是金靶一半的速度,金一鉑靶則具有與金靶非常接近的濺射速度。

          設(shè)備使用注意事項(xiàng)

          1.靶材的更換

          先拔下濺射蓋板上高壓和地線插頭,拿下濺射蓋板,松開三只頂絲,拿下保護(hù)板,然后擰下壓環(huán)就可以更換新靶。

          2.真空工作室清洗

          腔體工作室用無水乙醇、丙酮清洗,以保證系統(tǒng)能正常工作。

          3、針閥使用

          針閥關(guān)閉后再反向擰兩圈,以防止針閥長時間不用出現(xiàn)閥針回彈不靈活的現(xiàn)象。如遇到打開針閥時不向工作室放氣,請將針閥鈕擰到底后再重新打開即可。

          標(biāo)配

          1.NBD-4C真空泵; 2 金靶1只:Φ58*0.12 3.說明書一份.(可選配分子泵)

          服務(wù)支持

          一年保修,提供終身服務(wù);

          凈重

          25KG


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