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          涂鍍層測(cè)厚儀XDV-
          
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                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
          
				
          
                      
          
                                                                      
          
					
          涂鍍層測(cè)厚儀XDV-;是專(zhuān)為在極微小結(jié)構(gòu)上進(jìn)行高精度鍍層厚度測(cè)量和材料分析而設(shè)計(jì)的。該系列儀器均配備用于聚焦X射線束的多毛細(xì)管透鏡，光斑直徑（FWHM）可達(dá)10至60#181;m。短時(shí)間內(nèi)就可形成高強(qiáng)度聚焦射線。除了通用型XDV-#181;型儀器，還有專(zhuān)門(mén)為電子和半導(dǎo)體行業(yè)而設(shè)計(jì)的儀器。
          
				
          
				
          
                    詳細(xì)介紹
                
          
			    
          
			        
          
			            
          涂鍍層測(cè)厚儀XDV-µ應(yīng)用：
          鍍層厚度測(cè)量
          1、測(cè)量未布元器件和已布元器件的印制線路板
          2、在納米范圍內(nèi)測(cè)量復(fù)雜鍍層系統(tǒng)，如引線框架上Au/Pd/Ni/CuFe的鍍層厚度
          3、對(duì)大12英寸直徑的晶圓進(jìn)行全自動(dòng)的質(zhì)量監(jiān)控
          4、在納米范圍內(nèi)測(cè)量金屬化層（凸塊下金屬化層，UBM）
          5、遵循標(biāo)準(zhǔn) DIN EN ISO 3497 和 ASTM B568
          材料分析
          1、分析諸如Na等極輕元素
          2、分析銅柱上的無(wú)鉛化焊帽
          3、分析半導(dǎo)體行業(yè)中C4或更小的焊料凸塊以及微小的接觸面
          涂鍍層測(cè)厚儀XDV-µ特點(diǎn)：
          1、Advanced polycapillary X-ray optics that focus the X-rays onto extremely small measurement surfaces
          2、*的多毛細(xì)管透鏡，可將X射線聚集到極微小的測(cè)量面上
          3、現(xiàn)代化的硅漂移探測(cè)器（SDD），確保的檢測(cè)靈敏度
          4、可用于自動(dòng)化測(cè)量的超大可編程樣品平臺(tái)
          5、為特殊應(yīng)用而專(zhuān)門(mén)設(shè)計(jì)的儀器，包括：
          • XDV-μ LD，擁有較長(zhǎng)的測(cè)量距離（至少12mm）
          • XDV-μLEAD FRAME，特別為測(cè)量引線框架鍍層如Au/Pd/Ni/CuFe等應(yīng)用而優(yōu)化 
          • XDV-μ wafer,配備全自動(dòng)晶圓承片臺(tái)系統(tǒng)
          
			        
          
			    
          
                			    
                                                				
			
          
			
          
		
          
	
          
	
    
          
		
          
			
          
				
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