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制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備純氣含過(guò)量氫，適合需還原性氣氛的應(yīng)用，氫含量可調(diào)。原理簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)合理，能耗低，氣體指標(biāo)溫度，雜質(zhì)含量低，可選配自動(dòng)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守，應(yīng)用范圍廣，對(duì)原料氣無(wú)特殊要求。

詳細(xì)介紹

品牌	其他品牌	產(chǎn)地類別	國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,生物產(chǎn)業(yè),農(nóng)業(yè)

制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備原理；

O2 + H2 ----- HO2

利用氧氣和氫氣在催化劑作用下反應(yīng)生成水的原理，在氮?dú)庵屑尤霘錃?，混合氣在裝有高效的催化劑的除氧器中反應(yīng)，去除氧雜質(zhì)，再經(jīng)過(guò)冷卻、吸附兩級(jí)干燥除水，得到高純氮?dú)狻?/p>

制氮裝置等氮?dú)饧兓O(shè)備特點(diǎn)：

● 純氣含過(guò)量氫，適合需還原性氣氛的應(yīng)用，氫含量可調(diào)。

● 原理簡(jiǎn)單，結(jié)構(gòu)合理，能耗低

● 氣體指標(biāo)溫度，雜質(zhì)含量低

● 可選配自動(dòng)系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守

● 應(yīng)用范圍廣，對(duì)原料氣無(wú)特殊要求

技術(shù)指標(biāo)：

普通氮?dú)猓?/p>

● 壓力—— 0.6~0.7Mpa
● 常壓露點(diǎn)—— 無(wú)要求
● 氧含量——≤3%
● 處理氣量——10～5000Nm3/hr