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日本DNK科研曝光機MA-1200光刻機

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更新時間：2023-07-26 11:47:24瀏覽次數(shù)：368次

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塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司

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產(chǎn)品簡介

簡單介紹：產(chǎn)品信息實驗?研究用曝光裝置簡練設(shè)計的手動式整面單次曝光裝置。主要特長對應(yīng)玻璃、Wafer、膠片等基材的實驗研究用手動整面單次曝光機。也適合小批量生產(chǎn)?？蛇x擇接觸曝光(軟接觸、硬接觸)和近接曝光。對應(yīng)*大尺寸為500mm×500mm的基板。根據(jù)用途和基板尺寸,配置有*佳組合的光學系統(tǒng)。其中包括:超高壓水銀燈(500W?1kW?2kW?3.5kW)、各種光學鏡、特殊鏡頭、聚光鏡等。

詳細介紹

詳情介紹：

光刻機介紹

曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″

光源超高壓水銀燈：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm

光源超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對應(yīng)曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對應(yīng)曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規(guī)格也可對應(yīng)

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要規(guī)格

MA-1200、MA-1400

	MA-1200	MA-1400
基板尺寸	追大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″	追大 400 x 400mm
光源	超高壓水銀燈：500W or 1kW	超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW
外觀尺寸及重量	本體尺寸	W1240 x D1100 x H1725 mm	W1440 x D1590 x H1882 mm
本體重量	400kg	400kg(包含無塵機房)
光源重量	－	250kg
選購項	無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應(yīng)破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

MA-1200 MA-1400

基板尺寸追大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ 追大 400 x 400mm

光源超高壓水銀燈：500W or 1kW 超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW

外觀尺寸及重量本體尺寸 W1240 x D1100 x H1725 mm W1440 x D1590 x H1882 mm

本體重量 400kg 400kg(包含無塵機房)

光源重量－ 250kg

選購項無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應(yīng)破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。

※基板尺寸和水銀燈瓦數(shù)及特殊規(guī)格可商洽