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日本DNK科研曝光機(jī)MX-1201光刻機(jī)

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更新時(shí)間：2023-07-21 08:07:11瀏覽次數(shù)：286次

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產(chǎn)品分類 品牌分類

  SIBATA柴田

分析機(jī)器
  OTSUKA大冢電子

量子點(diǎn)評(píng)系統(tǒng)

膜厚儀

分光計(jì)測(cè)機(jī)器

分光光度計(jì)

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  大冢電子
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檢查設(shè)備/多任務(wù)機(jī)/周邊設(shè)備
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  SOMA相馬
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三維超聲波風(fēng)速儀

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  kotohira琴平工業(yè)

煙霧收集器

鞋底清潔裝置
  Marktec碼科泰克。

熒光滲透探傷儀
  marktec碼科泰克

UV探傷儀

滲透檢測(cè)設(shè)備

磁粉探測(cè)器
  Tokyokoden東京光電

火焰光度計(jì)
  TSUBOSAKA壺坂

照度計(jì) 光量計(jì)
  DNK科研

光刻機(jī) 曝光機(jī)
  MIKASA旋轉(zhuǎn)涂布機(jī)

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塔瑪薩崎電子（蘇州）有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

簡(jiǎn)單介紹：主要特長能夠用于研究開發(fā)、試作、小批量生產(chǎn)等的直描曝光。能夠?qū)?yīng)半導(dǎo)體、電子零件、優(yōu)異PCB、高密度封裝件、MEMS、FPD等的曝光。由于在光刻工藝中不需要掩膜，因而可以*大限度地降低開發(fā)成本和縮短市場(chǎng)供應(yīng)時(shí)間。此外,還可以根據(jù)客戶需求,提供相應(yīng)的裝置構(gòu)造。

詳細(xì)介紹

詳情介紹：

光刻機(jī)介紹

曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″

光源超高壓水銀燈：500W or 1kW

曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm

光源超高壓水銀燈：2kW or 3.5kW

LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″

光源超高壓汞燈：500W 或 1kW

?200mm/?150 mm 對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對(duì)齊精度自動(dòng)對(duì)齊：+/- 1 μm（
峰值搜索）

?300mm對(duì)應(yīng)曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規(guī)格也可對(duì)應(yīng)

マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區(qū)域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135

マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區(qū)域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50

主要規(guī)格

型式		MX-1201			MX-1201E		MX-1205
*小線幅 (※1)	[μm]	5			3		2	1
數(shù)據(jù)分辨率	[μm]	0.488			0.25		0.1	0.05
*大基板尺寸	[mm]	200 x 200			200 x 200		100 x 100
有效曝光范圍	[mm]	200 x 200			200 x 200		100 x 100
激光主波長	[nm]	405	375	405 + 375	405	375	375
曝光掃描速度	[mm/s]	43.94			22.5		9	4.5
節(jié)拍時(shí)間	[s,min]	180 [s]			320 [s]		16 [min]	27 [min]
*大曝光量	[mJ/c㎡]	245	70	245 + 70	460	135	50	100