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          上海瓦克儀器有限公司


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          射頻輝光放電光譜儀

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          產(chǎn)品型號(hào)GD Profiler 2

          品       牌

          廠商性質(zhì)其他

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          更新時(shí)間:2022-10-11 09:31:29瀏覽次數(shù):233次

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          產(chǎn)品簡(jiǎn)介

          解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過(guò)元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等

          詳細(xì)介紹

          解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)
          輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強(qiáng)有力手段,可以通過(guò)元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴(kuò)散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應(yīng)用行業(yè)有金屬冶金、半導(dǎo)體器件、LED芯片、薄膜太陽(yáng)能電池、鋰電池陰陽(yáng)、光學(xué)玻璃、核材料等。



          GD-Profiler 2 作為快鍍層分析的理想工具,適合于導(dǎo)體和非導(dǎo)體復(fù)合鍍層的分析,操作簡(jiǎn)單、便于維護(hù),是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。

          ? 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導(dǎo)性能差以及熱敏感的樣品。
          ? 采用高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器(HDD),可測(cè)試ppm-99%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。
          ? 分析速度快(2-10nm/s)



          技術(shù)參數(shù)

          1、射頻發(fā)生器-標(biāo)準(zhǔn)配置、復(fù)合D級(jí)標(biāo)準(zhǔn)、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時(shí)間短,表面信息無(wú)任何失真。
          2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導(dǎo)性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。
          3、Polyscan多道(同時(shí))光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測(cè)試遠(yuǎn)紫外元素C、H、O、N和Cl。
          4、離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量,因而擁有光效率和靈敏度。
          5、高動(dòng)態(tài)檢測(cè)器(HDD)可快速、高靈敏的檢測(cè)ppm-99%含量的元素。動(dòng)態(tài)范圍為5×1010。
          6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。
          7、功能強(qiáng)的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測(cè)報(bào)告。
          8、單色儀(選配)可提高儀器靈活性,可實(shí)現(xiàn)固定通道外任意一個(gè)元素的同步測(cè)試,稱為n+1。
          9、適用于ISO14707和16962標(biāo)準(zhǔn)。



          儀器原理:

          輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當(dāng)施加在放電兩的電壓達(dá)到一定值,超過(guò)激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場(chǎng)的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,產(chǎn)生陰濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。

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