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電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H

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更新時間：2023-05-21 16:45:39瀏覽次數(shù)：138次

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產(chǎn)品簡介

電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H

詳細(xì)介紹

　　一、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H概述

　　電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的產(chǎn)水量是每小時50噸，出水水質(zhì)滿足工業(yè)清洗行業(yè)用水要求。電子芯片清洗用超純水設(shè)備主要由超濾設(shè)備、反滲透設(shè)備、離子交換設(shè)備、EDI裝置等組合而成。

超純水設(shè)備

　　二、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的優(yōu)勢分析

　　1、工藝的設(shè)計細(xì)微周到，元件的材質(zhì)、性能、設(shè)計的流量、流速、壓力等均符合國家的標(biāo)準(zhǔn)規(guī)范及國外材料商的規(guī)定要求。

　　2、制水過程高度自動化，自動進(jìn)水，自動制水，純水箱滿水自動停機，用水后自動恢復(fù)，可實現(xiàn)無人值守的運行。

　　3、可選用可編程控制(PLC)，計算機觸摸屏控制，遠(yuǎn)程數(shù)據(jù)采集及監(jiān)控等*技術(shù)，使產(chǎn)品更具現(xiàn)代化特色。

超純水設(shè)備

　　三、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的工藝流程

　　1、采用兩級反滲透方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→級反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過濾器→用水點。

　　2、采用EDI方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→用水點。

　　3、采用離子交換方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→陽樹脂過濾床→陰樹脂過濾床→陰陽樹脂混床→微孔過濾器→用水點。

超純水處理設(shè)備

　　四、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的技術(shù)指標(biāo)

　　(1) 脫鹽率大于99.9%，效率遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于兩級反滲透和單純的離子交換。

　　(2) 較傳統(tǒng)的離子交換法脫鹽節(jié)約樹脂95%以上。

　　(3) 離子交換樹脂不需使用酸堿再生，節(jié)約大量酸堿和清洗用水，降低勞動強度。

　　(4) 清潔生產(chǎn)，無廢水處理問題，利于環(huán)保。

　　(5) 自動化程度高，易維護，可設(shè)計成完善的膜技術(shù)高純水生產(chǎn)線。

　　(6) 產(chǎn)水電阻率15-18MΩ.cm，pH 6.5-7.0，硅<1.0ppb，無菌。

　　(7) 占地面積小，單一系統(tǒng)連續(xù)運轉(zhuǎn)，不需建設(shè)備用系統(tǒng)。

超純水處理設(shè)備

　　五、電子芯片清洗用超純水設(shè)備-50T/H的水質(zhì)指標(biāo)

型號	電阻率	氧化矽	重金屬	KMnO4	鈉	氨	微生物	PH值
CAP-Ⅰ	≥10	0.01	0.01	60	0.1	0.1	微少	6-7
CAP-Ⅱ	0.5	0.01	0.01	60	0.01	0.01	微少	6-7
CAP-Ⅲ	0.2	0.01	0.01	60	0.1	0.1	微少	6-7
NCCLS	≥10	0.05	——	——	——	——	10	——

　　電子芯片清洗用超純水設(shè)備運行穩(wěn)定，耗能低，產(chǎn)水水質(zhì)符合國家相關(guān)水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。萊特萊德作為專業(yè)的水處理設(shè)備生產(chǎn)廠家，我們生產(chǎn)的超純水設(shè)備具有專業(yè)的技術(shù)優(yōu)勢和可靠性。萊特萊德是集設(shè)計、制造、銷售于一體的大型水處理生產(chǎn)廠家，我們售后服務(wù)好，品質(zhì)有保證，歡迎廣大用戶光臨選購。

關(guān)鍵詞：觸摸屏數(shù)據(jù)采集加壓泵電阻率 PH值