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微型電子生產用純凈水設備

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更新時間：2023-02-01 12:29:44瀏覽次數：243次

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產品簡介

微型電子生產用純凈水設備

詳細介紹

　　如今電子行業(yè)對水質方面的要求都有所提高，為了能讓水質達到各項標準，必須采用高效的微型電子生產用純凈水設備。但是反滲透膜使用一段時間后會有污染，直接影響反滲透膜的使用時間以及整個設備。

　　微型電子生產用純凈水設備處理過程

　　沉淀法：以大容積、低流速的自然沉淀方法對水進行預處理，如沉淀池。

　　混凝法：利用鐵、鋁、高分子等混凝劑，與水中的雜質通過絮凝和架橋作用生成大顆粒沉淀物，再通過其它設備，予以去除。

　　過濾法：將被處理的水，流經裝有特殊過濾材料的裝置，截留水中雜質，予以去除。

　　軟化法：采用化學藥劑或陽離子交換樹脂方法，使水中的鈣、鎂、鐵離子去除。

　　消毒法：加入藥劑或使用紫外線、臭氧等方法，消除水中的微生物、細菌等。

　　微型電子生產用純凈水設備的安裝步驟

　　1、將純凈水主機和預處理系統(tǒng)放置在接近水源和電源的地方。

　　2、裝石英砂、活性炭、軟化樹脂等過濾材料。

　　3、連接水路：原水泵進水口與水源連接、預濾器出口與主機進口連接，預處理器、主機排水口均用管路連接至下水道。

　　4、電路：先將接地線可靠接地，并將隨機所配電源線連接到房間電控箱內。

　　5、通入水源、電源，按照“預處理操作說明”的要求按步驟操作，預處理調試操作完成。

　　6、使用本機，原水泵開關，撥在自動位置，并旋開停機開關。接通水源、電源，待多級泵口壓力達到壓力控制器設定值時，多級泵啟動工作。多級泵啟動后，調系統(tǒng)壓力在1.0-1.2Mpa。啟動應對RO膜系統(tǒng)進行手動沖洗30分鐘。

　　微型電子生產用純凈水設備的維護

　　低壓沖洗

　　定期對ro裝置進行大流量、低壓力、低ph值的沖洗有利于剝除附著在ro膜表面上的污垢，維持膜性能，或當進水sdi突然升高超過5.5以上時，應進行低壓沖洗，待sdi值調至合格后再開機。

　　停運保護

　　由于生產的波動，ro裝置不可避免地要經常停運，ro短期或長期停用時必須采取保護措施，不適當地處理會導致膜性能下降且不可恢復。

　　短期保存適用于停運15d以下的ro系統(tǒng)，可采用每1～3d低壓沖洗的方法來保護ro裝置。實踐發(fā)現,水溫20℃以上時，ro裝置中的水存放3d就會發(fā)臭變質，有大量細菌繁殖。因此建議水溫高于20℃時，每2d或1d低壓沖洗一次，水溫低于20℃時，可以每3d低壓沖洗一次，每次沖洗完后需關閉反滲透裝置上所有進出口閥門。

　　長期停用微型電子生產用純凈水設備適用于停運15d以上的系統(tǒng)，這時必須用保護液(殺菌劑)充入反滲透裝置進行保護。常用殺菌劑配方(復合膜)為甲醛10%(質量分數)、異噻唑啉酮20mg/l、亞硫酸氫鈉1%(質量分數)。

關鍵詞：處理器壓力控制器