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          日本理學(xué)連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀ZSX Primus 400-華普通用
          
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								更新時間：2024-05-30 11:31:17瀏覽次數(shù)：97次
							
          
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          經(jīng)營模式：其他
          
						
          商鋪產(chǎn)品：364條
          
						
          所在地區(qū)：
          
						
          聯(lián)系人：陳經(jīng)理
          												
					
          
				
          
			
          			
          
                                
          
                    產(chǎn)品簡介
                
          
				
          
                      
          
                                                                      
          
					
          簡要描述： Rigaku ZSX Primus 400 連續(xù)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀為處理非常大或重的樣品而設(shè)計
          
				
          
				
          
                    詳細(xì)介紹
                
          
			    
          
			        
          
			                  
          產(chǎn)品描述
          連續(xù)波長色散X射線熒光光譜儀

          Rigaku 的 ZSX Primus 400 連續(xù)波長色散 X 射線熒光 (WDXRF) 光譜儀為處理非常大或重的樣品而設(shè)計。該系統(tǒng)可接受直徑大為 400 毫米、厚度為 50 毫米和質(zhì)量為 30 千克的樣品，非常適合分析濺射靶材、磁盤，或用于多層薄膜計量或大型樣品的元素分析。
          優(yōu)點(diǎn)
          帶有定制樣品適配器系統(tǒng)的 XRF,適應(yīng)特定樣品分析需求的多功能性，可使用可選適配器插件適應(yīng)各種樣品尺寸和形狀。憑借可變測量點(diǎn)（直徑 30 毫米至 0.5 毫米，具有 5 步自動選擇）和具有多點(diǎn)測量的映射功能以檢查樣品均勻性。
          具有可用相機(jī)和特殊照明的 XRF,可選的實(shí)時攝像頭允許在軟件中查看分析區(qū)域。
          仍保留了傳統(tǒng)儀器的所有分析能力。
           
          安全性
          采用上照射設(shè)計,樣品室可簡單移出，再不用擔(dān)心污染光路，清理麻煩和增加清理時間等問題。


          應(yīng)用域
          固體、液體、粉末、合金和薄膜的元素分析:
          濺射靶材組成.
          隔離膜：SiO2、BPSG、PSG、AsSG、Si₃N₄、SiOF、SiON等。
          高 k 和鐵電介質(zhì)薄膜：PZT、BST、SBT、Ta2O5、HfSiOx
          金屬薄膜：Al-Cu-Si、W、TiW、Co、TiN、TaN、Ta-Al、Ir、Pt、Ru、Au、Ni等。
          電膜：摻雜多晶硅（摻雜劑：B、N、O、P、As）、非晶硅、WSix、Pt等。
          其他摻雜薄膜（As、P）、困惰性氣體（Ne、Ar、Kr等）、C（DLC）
          鐵電薄膜、FRAM、MRAM、GMR、TMR；PCM、GST、GeTe
          焊料凸點(diǎn)成分：SnAg、SnAgCuNi
          MEMS：ZnO、AlN、PZT的厚度和成分
          SAW器件工藝：AlN、ZnO、ZnS、SiO 2（壓電薄膜）的厚度和成分；Al、AlCu、AlSc、AlTi（電膜）
           
          ■ 技術(shù)參數(shù)
          大樣本分析：大 400 毫米（直徑），大 50 毫米（厚度），高達(dá) 30 千克（質(zhì)量）
          樣品適配器系統(tǒng)，適用于各種樣本量
          測量點(diǎn)：30 毫米至 0.5 毫米直徑，5步自動選擇
          映射能力，允許多點(diǎn)測量
          樣品視圖相機(jī)（可選）
          分析范圍：Be - U
          元素范圍：ppm 至 %
          厚度范圍：sub Å 至 mm
          衍射干擾抑制（可選）：單晶襯底的準(zhǔn)確結(jié)果
          符合行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)：SEMI、CE標(biāo)志
          占地面積小，以型號的 50% 占地面積
           
			        
          
			    
          
                			    
          關(guān)鍵詞：熒光光譜儀  光譜儀
          
                                                				
			
          
			
          
		
          
	
          
	
    
          
		
          
			
          
				
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