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六源有機無機聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設備

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更新時間：2023-03-01 11:39:47瀏覽次數(shù)：229次

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沈陽科晶自動化設備有限公司

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產(chǎn)品簡介

六源有機無機聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設備

詳細介紹

六源有機無機聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設備適用于制備金屬單質薄膜、半導體薄膜、氧化物薄膜、有機薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作，也可用于大批量生產(chǎn)前的試驗工作。OPV系列真空蒸發(fā)鍍膜與手套箱聯(lián)合系統(tǒng)的用戶群體為科研院所及實驗室，將真空蒸發(fā)系統(tǒng)工作室置于Glove box無水、無氧、無塵的超純環(huán)境中，PVD與Glove box硬件無縫對接，操控融合一體，廣泛應用于有機、無機、鈣鈦礦薄膜太陽能電池、OLED等研究領域。

產(chǎn)品型號

六源有機無機聯(lián)合蒸發(fā)鍍膜設備

主要特點

1、樣品在鍍膜過程中，帶有烘烤加熱功能，烘烤加熱溫度為：室溫～180℃，測溫控溫。

2、設備帶有斷水斷電連鎖保護報警裝置、防誤操作保護報警裝置。

技術參數(shù)

1、鍍膜室：鍍膜腔室尺寸約為600×450×450mm，不銹鋼材料，方形前后開門結構，內帶有防污板。
2、抽氣系統(tǒng)：采用分子泵+機械泵抽氣系統(tǒng)：
真空度：鍍膜室的極限真空≤6×10-4Pa；
系統(tǒng)漏率≤1×10-7PaL/s。

3、蒸發(fā)源系統(tǒng)：
   有機源蒸發(fā)源4個，容積5ml，2臺蒸發(fā)電源，可測溫控溫，加熱溫度400℃，功率0.5Kw；
   擋板：蒸發(fā)源擋板采用自動磁力控制方式，控制其開啟；
   安裝：蒸發(fā)源安裝在真空室的下底上。

4、樣品架系統(tǒng)：
樣品架可放置大小為Φ120mm的樣品，載玻片；

樣品架可旋轉，旋轉速度為：0～30轉/分；
安裝：樣品安裝在真空室的上蓋上，蒸發(fā)源安裝在真空室的下蓋上，向上蒸發(fā)鍍膜，蒸發(fā)源都帶有擋板裝置。

7、 5、無機蒸發(fā)源2套、容積5ml，2臺蒸發(fā)電源，加熱電流300A，功率3.2Kw；
8、 6、石英晶振膜厚控制儀：膜厚測量范圍0-999999Å。