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北京海菲爾格科技有限公司
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| 時間分辨率 | 200ms | 檢測器 | APD高靈敏度雪崩式光電二極管檢測器 |
|---|---|---|---|
| 設備操作條件 | 15~40℃、-10~50℃、相對濕度≤70%、無冷凝 | 激光源 | 高穩(wěn)定性固態(tài)激光器(可選藍色和綠色) |
DLS動態(tài)光散射技術是非常成熟的N3表征技術，可用于測量納米體系混懸液的粒度及粒度分布。穩(wěn)定的激光光源照射布朗運動的納米顆粒，將致使散射光強發(fā)生波動，光電二極管檢測器獲得這些波動后，通過斯托克斯-愛因斯坦方程可得出粒度信息。DLS只需少量樣品即可完成分析，快速、精確、重復性好，是目前應用的N3粒度測量方法。
DLS動態(tài)光散射技術是非常成熟的N3表征技術，可用于測量納米體系混懸液的粒度及粒度分布。穩(wěn)定的激光光源照射布朗運動的納米顆粒，將致使散射光強發(fā)生波動，光電二極管檢測器獲得這些波動后，通過斯托克斯-愛因斯坦方程可得出粒度信息。DLS只需少量樣品即可完成分析，快速、精確、重復性好，是目前應用的N3粒度測量方法。Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測儀以廣為熟知的DLS動態(tài)光散射技術為基石,集成了穩(wěn)定的光學單元、靈敏的光電二極管檢測器和靈活的非浸入式探頭,結合專用的分析軟件和數學模型，是一款的、針對各類型納米體系中的顆粒尺寸原位監(jiān)測系統。
與傳統DLS相比，Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測儀顯著增大了樣品濃度范圍和粒度的測量范圍。Vasco Kin原位納米粒度監(jiān)測儀不但保持了傳統DLS動態(tài)光散射儀器的高靈敏度和寬適應性，還開創(chuàng)性地采用了非浸入式遠程探頭，將DLS技術帶入原位過程監(jiān)測的廣泛應用場景，并增加了創(chuàng)新的時間關聯功能。
原位納米粒度監(jiān)測儀特點：
流體動力學分析
高速數據采集，實時數據處理
集成化程度高，無運動部件，維護和使用成本低
模塊化設計，可更換探頭，一機多能，一機多用
測試靈活，可根據樣品濃度及透光性調整工作距離和散射角
時間切片，可選取監(jiān)測曲線中的任意時間段進行粒徑分析
超低延時，無需頻繁采樣，原位監(jiān)測納米顆粒的變化過程
操作簡便，非浸入式探頭，無需批量稀釋，無需樣品預處理
適用性好，配備背散射技術，原濃或深色的不透明樣品同樣適用
應用領域：
實時監(jiān)控納米顆粒合成工藝、提高懸浮穩(wěn)定性等
原位測量(在反應器、高壓滅菌器、密封小瓶等裝置內部進行測量)
將粒度測量與其他光譜法(X 射線小角散射、小角中子散射、拉曼光譜法、紫外-可見光譜法等) 相結合
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