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          質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧系統(tǒng)

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          • 型號(hào) MALDI
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          • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)商
          • 所在地 北京市

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          更新時(shí)間:2020-09-30 14:16:20瀏覽次數(shù):305

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          質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧系統(tǒng)
          MALDI質(zhì)譜成像技術(shù)已成為生物標(biāo)志物研究、醫(yī)學(xué)、藥物研究等方面的重要手段,自動(dòng)化的基質(zhì)噴涂技術(shù)可大大提高M(jìn)ALDI質(zhì)譜成像的靈敏度和分辨率。

          詳細(xì)介紹

          質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧系統(tǒng)

                   MALDI質(zhì)譜成像技術(shù)已成為生物標(biāo)志物研究、醫(yī)學(xué)、藥物研究等方面的重要手段,自動(dòng)化的基質(zhì)噴涂技術(shù)可大大提高M(jìn)ALDI質(zhì)譜成像的靈敏度和分辨率HST公司研發(fā)的μMatrix矩陣觀察微噴霧系統(tǒng)是質(zhì)譜組織成像領(lǐng)域內(nèi)一款新型的基質(zhì)制備設(shè)備。通過電腦控制的壓電式模塊,只需要pl的上樣量,即可產(chǎn)生高重現(xiàn)性和均一性的Matrix制備。在組織多肽領(lǐng)域,該系統(tǒng)也可以制備均質(zhì)的酶消化樣本。與市場(chǎng)上傳統(tǒng)的納升級(jí)噴霧系統(tǒng)不同,此微噴霧系統(tǒng)采用全新的精細(xì)霧點(diǎn)控制模塊,*在細(xì)微的組織表面高分辨率的精確均勻噴灑各種基質(zhì)。也可將*直接噴灑在組織表面,進(jìn)行表面蛋白質(zhì)原位酶解,不但能看到目標(biāo)蛋白質(zhì)的分布,而且能通過質(zhì)譜儀直接鑒定蛋白質(zhì)。

           

           技術(shù)指標(biāo)

          應(yīng)用精度:±50μm

          噴霧分辨率:5760*1440 dpi

          樣品槽:支持6個(gè)樣品瓶位

          噴霧速度:大約30秒 (在 5×5 cm2區(qū)域上)

          自動(dòng)應(yīng)用控制器:定量重復(fù)噴霧

          板支架:384孔格式板,銦錫導(dǎo)電載玻片(ITO slide glass)

          加熱板:溫度范圍20?50℃

          壓電式噴霧單元:3 PL /zui少

          ■性能

           

             精確性和均一性

           

           

           μMatrix Spotter可以將世界地圖上的任何區(qū)域繪制成微斑點(diǎn)的矩陣陣列。

          操作簡(jiǎn)單

           

          其軟件直觀的用戶界面可以精確控制基質(zhì)的數(shù)量、斑點(diǎn)面積以及位置。

           

          可重現(xiàn)性

           

              通過使用pL-級(jí)壓電式噴霧單元模塊,為矩陣觀察提供各種基質(zhì)溶液的高還原性斑點(diǎn),如HCCA (L) 和 DHB (R)

           

          μMatrix Spotter

          μMatrix Spotter產(chǎn)品優(yōu)勢(shì)

           

          • *溶液和優(yōu)化的溶劑混合液噴涂在組織切片上,可用于MALDI質(zhì)譜成像實(shí)驗(yàn)。
          • μMatrix Spotter的操作軟件可以精確選擇基質(zhì)打印區(qū)域,從而盡量減少基質(zhì)溶液的使用。
          • 通過壓電式噴霧單元在組織切片上方的垂直“PL”噴霧可實(shí)現(xiàn)打印區(qū)域基質(zhì)的*性
          • MALDI MS成像的組織提取物可實(shí)現(xiàn)少量重復(fù)打印控制。重復(fù)數(shù)量和干燥時(shí)間可根據(jù)個(gè)個(gè)實(shí)驗(yàn)的目的進(jìn)行優(yōu)化控制
          • 可同時(shí)打印4個(gè)氧化銦錫載玻片

          專業(yè)的質(zhì)譜載樣臺(tái)

          ·疏水性和親水性結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)

          ·基質(zhì)噴霧細(xì)而均勻

          ·基質(zhì)用量少

          ·一次性使用

           

          μ陣列質(zhì)譜載樣臺(tái)

          ·均勻密點(diǎn)陣列→HTS專有

          ·μ焦點(diǎn)技術(shù)→高靈敏性

          ·一次性使用

          ·高成像性

           

          氧化銦錫涂層質(zhì)譜載玻片

           

          ·經(jīng)濟(jì)性,高成像性

          ·穩(wěn)定的氧化銦錫涂層

          ·25 x 75 mm, I型或II型

          ·厚度0.7 mm 和 1.1 mm

          質(zhì)譜成像基質(zhì)微噴霧系統(tǒng)、

           

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