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產(chǎn)品型號(hào)
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地杭州市
更新時(shí)間:2019-11-10 10:18:30瀏覽次數(shù):303次
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使用說明:
1、貯運(yùn)過程中不應(yīng)受到日曬雨淋及機(jī)械損傷,貯存庫(kù)房應(yīng)清潔陰涼,干燥通風(fēng)。
2、陰離子、陽(yáng)離子交換膜在裁剪前必須分別在規(guī)定的溶液中浸泡48小時(shí),即根據(jù)需處理的原水水質(zhì)分析資料,配制成原水濃度溶液為陽(yáng)膜浸泡液;配制成相當(dāng)于電滲析出口淡水濃度為陰膜浸泡液。
3、按隔板尺寸裁剪打孔,膜面積應(yīng)略小于隔板面積。
由于使用后陽(yáng)膜稍有收縮性,陰膜仍有膨脹性,故可將在清水中浸泡的膜再作進(jìn)一步處理⑴陰膜可再浸入水質(zhì)較淡或純水中再收縮。
⑵陽(yáng)膜浸泡膨脹后再浸入食鹽水中再收縮。
4、酸洗應(yīng)根據(jù)膜面結(jié)垢的程度而定,鹽酸濃度不宜超過3%,開始酸洗時(shí)如鹽酸消耗較快,須補(bǔ)充鹽酸,直至不再消耗鹽酸為止(約1~2小時(shí))酸洗完畢,用原水沖至出水PH=4~5(約10分鐘)后,可投入運(yùn)行(淡水、濃水、極水三個(gè)系統(tǒng)應(yīng)及時(shí)清洗)。
5、打孔膜應(yīng)及早裝入電滲器,濕膜應(yīng)清洗晾干用塑料袋包裝后貯存。
6、電滲析器進(jìn)水要求:
⑴濁度≤0.3ppm
⑵耗氧量<2ppm
⑶游離氯<0.2ppm
⑷含鐵量<0.3ppm
⑸含錳量<0.1ppm
⑹水溫5~40℃
⑺硬度超過900ppm應(yīng)要軟化處理
⑻污染指數(shù)SDI<5
電滲析高鹽度廢水處理裝置定制
電驅(qū)動(dòng)分離器作為預(yù)脫鹽設(shè)備,可應(yīng)用于含鹽量500-4000mg/L的原水,具有較強(qiáng)的實(shí)用性和經(jīng)濟(jì)性。單臺(tái)產(chǎn)水量0.2-16T/H,脫鹽率75-97%。廣泛的應(yīng)用在化工、冶金、食品、生物、醫(yī)藥工業(yè)污水處理等領(lǐng)域。
主要用途:
1、制取電鍍工藝用去離子水;電池生產(chǎn)工藝的純水;汽車、家用電器、建材產(chǎn)品。
2、石油化工業(yè)如化工反應(yīng)冷卻水;化學(xué)藥劑、化肥及精細(xì)化工、化妝品制造過程用工藝純水。
3、賓館、樓宇、社區(qū)機(jī)場(chǎng)房產(chǎn)物業(yè)的優(yōu)質(zhì)供水網(wǎng)絡(luò)系統(tǒng)及游泳池水質(zhì)凈化。
4、線路板、電鍍、電子工業(yè)廢水處理及回用。
5、生活、制革、印染、造紙工業(yè)廢水及垃圾滲瀝液的處理。
6、制取電子工業(yè)生產(chǎn)如顯像管玻殼、顯像管、液晶顯示器、線路板、計(jì)算機(jī)硬盤、集成電路?芯片、單晶硅半導(dǎo)體等工藝所需的純水、高純水。
7、制取熱力、火力發(fā)電鍋爐,廠礦企業(yè)中、低壓鍋爐給水所需軟化水、除鹽純水。
8、制取醫(yī)藥工業(yè)所需的科研大輸液、注射劑、藥劑、生化制品純水、科研無菌水及人工腎透析用純水等。
9、制取飲料(含酒類)行業(yè)的飲用純凈水、蒸餾水、礦泉水,酒類釀造水和勾兌用純水。
10、海水、苦咸水制取生活用水及飲用水。
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