EDI設(shè)備是應(yīng)用在反滲透系統(tǒng)之后，取代傳統(tǒng)的混床離子交換技術(shù)（MB-DI）生產(chǎn)穩(wěn)定的超純水。EDI技術(shù)與混合離子交換技術(shù)相比有如下優(yōu)點(diǎn):

◆ 具有更高的產(chǎn)水質(zhì)量，zui高可達(dá)18.25MΩ*cm超純水標(biāo)準(zhǔn)。
◆ 脫鹽率高，出水質(zhì)更穩(wěn)定， 
◆ 水利用率高出，達(dá)95%
◆ 樹脂無(wú)需酸堿再生，無(wú)污水排放，更環(huán)保。
◆ 運(yùn)行、操作、維護(hù)方便，全程自動(dòng)化。
◆ 標(biāo)準(zhǔn)設(shè)計(jì)、視產(chǎn)水要求可將模塊不斷堆積，以適應(yīng)更大產(chǎn)水量的要求
◆ 流量范圍從1m3/h到450m3/h以上
◆ 運(yùn)行成本低、能耗少，每產(chǎn)水3.8m3/h，耗電1KW　　

反滲透超純水設(shè)備典型工藝流程為： 
　　1: 預(yù)處理－反滲透－純化水箱－離子交換器－紫外燈-純水泵－用水點(diǎn) 
　　2: 預(yù)處理－一級(jí)反滲透－二級(jí)反滲透（正電荷反滲膜）－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點(diǎn)
　　3: 預(yù)處理－反滲透－中間水箱－中間水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵-紫外燈－用水點(diǎn)
　　水質(zhì)符合美國(guó)ASTM標(biāo)準(zhǔn)，電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)（18MΩ*cm，15MΩ*cm，2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí)）

超純水的應(yīng)用領(lǐng)域
      超純水經(jīng)常用于微電子工業(yè)、半導(dǎo)體工業(yè)、發(fā)電工業(yè)、制藥行業(yè)和實(shí)驗(yàn)室。EDI純水也可以作為制藥蒸餾水、食物和飲料生產(chǎn)用水、發(fā)電廠的鍋爐補(bǔ)給水，以及其它用途的超純水