塑料高分子材料研磨分散機(jī)，聚砜類塑料塑料高分子材料研磨分散機(jī),聚酰亞胺類高分子材料研磨分散機(jī)，聚苯乙烯類高分子材料研磨分散機(jī)，聚酯類高分子材料研磨分散機(jī)

塑料以合成或天然高聚物為基本成分，配以一定的高分子助劑（如填料、增塑劑、穩(wěn)定劑、著色劑等），經(jīng)加工塑化成型，并在常溫下保持其形狀不變的材料，稱為塑料。

塑料有許多不同的分類，常用的是按材料的受熱行為可分為熱塑性塑料和熱固性塑料，其中熱塑性塑料占塑料總量的80％。按樹脂的化學(xué)結(jié)構(gòu)有聚烯烴類、聚苯乙烯類、丙烯酸類、聚酰胺類、聚酯類、聚砜類、聚酰亞胺類等。按塑料的使用功能分，把產(chǎn)量大、價(jià)格便宜、原料來源豐富、應(yīng)用面廣的稱為通用塑料，一般有聚乙烯、聚丙稀、聚氯乙烯、聚苯乙烯、酚醛和氨基塑料，占塑料總量的80％，其力學(xué)性能、熱性能都比較差，主要作為非結(jié)構(gòu)材料使用。工程塑料一般是指可以作為結(jié)構(gòu)材料使用，具有優(yōu)異的力學(xué)性能、熱性能、尺寸穩(wěn)定性或能滿足特殊要求的某些塑料如聚四氟乙烯、聚酰胺、聚甲醛等。當(dāng)然這兩者有時(shí)難以有的界限，如某些通用塑料如聚丙稀、聚苯乙烯經(jīng)改性之后也可以作為結(jié)構(gòu)材料使用。

塑料根據(jù)組分?jǐn)?shù)目又可分為單一組分和多組分塑料。單組分塑料基本是由高聚物組成，典型的是聚四氟乙烯，不加任何助劑。大多數(shù)塑料是多組分體系，除高聚物這一基本成分外，還加入添加劑（高分子助劑），助劑能改善材料的加工性能、使用性能以及降低成本。主要的助劑有填料和增強(qiáng)劑、增塑劑、穩(wěn)定劑、阻燃劑、發(fā)泡劑等。

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上海依肯研發(fā)的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。在膠體磨的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

CMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

CMD2000研磨分散機(jī)有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機(jī)的優(yōu)勢：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設(shè)計(jì)理念，將先x的技術(shù)與創(chuàng)x的思維有效融合，并體現(xiàn)在具體的設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)中，為設(shè)備穩(wěn)定運(yùn)行提供了保證.

新結(jié)構(gòu) 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細(xì)度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達(dá)400目.

更可靠 采用整體式機(jī)械密封，zui大程度上解決了高速運(yùn)轉(zhuǎn)下的物料泄漏以及冷卻介質(zhì)污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術(shù) 采用先x的受控切割技術(shù)，將纖維類物料粉碎細(xì)度控制在設(shè)定范圍之內(nèi)，滿足生產(chǎn)中的粗、細(xì)及超細(xì)濕法粉碎的要求.

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說的濕磨

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2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備核心參數(shù):

設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

CMD2000系列研磨分散機(jī)設(shè)備選型表
 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

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