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價(jià)格電議

KRI 考夫曼離子源 RFICP 40
上海伯東代理美國* KRI 考夫曼型離子源 RFICP 40 : 目前 KRI 射頻離子源 RFICP 系列尺寸小, 低成本高效離子源. 適用于集成在小型的真空腔體內(nèi). 離子源 RFICP 40 設(shè)計(jì)采用創(chuàng)新的柵極技術(shù)用于研發(fā)和開發(fā)應(yīng)用. 離子源 RFICP 40 無需電離燈絲設(shè)計(jì), 適用于通氣氣體是活性氣體時(shí)的工業(yè)應(yīng)用.標(biāo)準(zhǔn)配置下 RFICP 40 離子能量范圍 100 至 1200ev, 離子電流可以超過 120 mA.

離子源 RFICP 40 特性:
1. 離子源放電腔 Discharge Chamber, 無需電離燈絲, 通過射頻技術(shù)提供高密度離子, 工藝時(shí)間更長.
2. 離子源結(jié)構(gòu)模塊化設(shè)計(jì), 使用更簡單; 基座可調(diào)節(jié), 有效優(yōu)化蝕刻率和均勻性.
3. 提供聚焦, 發(fā)散, 平行的離子束
4. 離子源自動(dòng)調(diào)節(jié)技術(shù)保障柵極的使用壽命和可重復(fù)的工藝運(yùn)行
5. 柵極材質(zhì)鉬和石墨,堅(jiān)固耐用
6. 離子源中和器 Neutralizer, 測量和控制電子發(fā)射,確保電荷中性

KRI 考夫曼離子源 RFICP 40 技術(shù)參數(shù)：

型號	RFICP 40 / RFICP 40FN
供電	RF 射頻感應(yīng)耦合
- 陰極燈絲	-
- 射頻功率	0.6 KW
電子束	OptiBeam™
- 柵極
-柵極直徑	4 cm
中和器	LFN 2000
電源控制	RFICP 1510-2-06-LFNA
配置	-
- 陰極中和器	LFN1000 or MHC1000 or RFN
- 安裝	移動(dòng)或快速法蘭
- 高度	5.0'
- 直徑	5.3'
- 離子束	聚焦平行散設(shè)
-加工材料	金屬電介質(zhì) 半導(dǎo)體
-工藝氣體	惰性活性混合
-安裝距離	6-18”
- 自動(dòng)控制	控制4種氣體

* 可選: 燈絲中和器; 可變長度的增量

KRI 考夫曼離子源 RFICP 40 應(yīng)用領(lǐng)域：
預(yù)清洗
表面改性
輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜)IBAD,
濺鍍和蒸發(fā)鍍膜 PC
離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
離子蝕刻 IBE