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上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司
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光觸媒研磨分散機(jī)
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訪問次數(shù)：314更新時(shí)間：2019-06-07 19:31:12
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產(chǎn)品簡介
產(chǎn)品介紹
光觸媒研磨分散機(jī)，納米光觸媒分散機(jī)，光觸媒分散機(jī)，納米*分散機(jī)，光觸媒超細(xì)分散機(jī)，納米分散機(jī)
光觸媒是一種以納米級*為代表的具有光催化功能的光半導(dǎo)體材料的總稱。在所有的光觸媒材料中，納米TiO2不僅具有很高的光催化活性，且具有耐酸堿腐蝕、耐化學(xué)腐蝕、無毒等優(yōu)點(diǎn)，價(jià)格也適中，具有較高的性價(jià)比，因而市場上大多使用納米*作為主要原材料。
對于納米級物料的分散，容易出現(xiàn)團(tuán)聚的現(xiàn)象，納米*的分散也不例外。團(tuán)聚是指原生的納米粉體顆粒在制備、分離、處理及存放過程中相互連接、由多個(gè)顆粒形成較大的顆粒團(tuán)簇的現(xiàn)象。由于團(tuán)聚顆粒粒度小，表面原子比例大，比表面積大，表面能大，處于能量不穩(wěn)定狀態(tài)，因而細(xì)微的顆粒都趨向于聚集在一起，很容易團(tuán)聚，形成團(tuán)聚狀的二次顆粒，乃至三次顆粒，使粒子粒徑變大，在每個(gè)顆粒內(nèi)部有細(xì)小孔隙。
納米顆粒的團(tuán)聚一般分為兩種：軟團(tuán)聚和硬團(tuán)聚。對于軟團(tuán)聚機(jī)理，人們的看法比較*，即，軟團(tuán)聚是由納米粉體表面分子或原子之間的范德華力和靜電引力所致，由于作用力較弱，可以通過一些化學(xué)作用或施加機(jī)械能的方式來消除。
光觸媒研磨分散機(jī)，SGN高剪切研磨分散機(jī)是納米物料分散設(shè)備中*，在多個(gè)領(lǐng)域的納米分散中都有著突出的應(yīng)用。如：納米*、納米二氧化硅、石墨烯、碳納米管、納米樹脂、納米涂料等！
上海SGN應(yīng)對納米級物料的分散，研發(fā)出新型設(shè)備，高剪切研磨分散機(jī)，將膠體磨和分散機(jī)一體化的設(shè)備，納米級漿料進(jìn)入研磨分散后，*行研磨將團(tuán)聚體打開，然后再經(jīng)過分散工作組，進(jìn)行分散，避免再次團(tuán)聚。
SGN研磨分散機(jī)是高剪切膠體磨+高剪切分散機(jī)的設(shè)備，將兩者一體化，解決了時(shí)間差的問題，因?yàn)槲锪蠄F(tuán)聚是一個(gè)瞬間的過程，研磨后立即分散，效果好，效率高。
GMD2000系列研磨分散設(shè)備是SGN公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機(jī)進(jìn)行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細(xì)化物料，然后再經(jīng)過乳化機(jī)將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）。
SGN化工研磨分散設(shè)備選型表：
研磨分散機(jī) | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
GMSD 2000/4 | 300 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD 2000/5 | 1000 | 10,500 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD 2000/10 | 3000 | 7,300 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 37 | DN80/DN65 |
GMSD 2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 55 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 2,000 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，同時(shí)流量可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%。 | |||||
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