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          上海思峻機(jī)械設(shè)備有限公司

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          GMD2000/4高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)
          參考價(jià): 面議
          具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • GMD2000/4 產(chǎn)品型號(hào)
          • 品牌
          • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
          • 上海市 所在地

          訪問(wèn)次數(shù):180更新時(shí)間:2019-06-07 19:30:39

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          產(chǎn)品簡(jiǎn)介
          高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程的設(shè)備的設(shè)備。
          產(chǎn)品介紹

          一、設(shè)備供應(yīng):

          高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī),納米科研級(jí)氧化鎂乳化機(jī),氧化鎂納米研磨分散機(jī),氧化鎂納米分散均質(zhì)設(shè)備

           

          二、應(yīng)用領(lǐng)域:

           

          隨著產(chǎn)業(yè)化升級(jí)及*功能材料市場(chǎng)的需求和發(fā)展,研發(fā)生產(chǎn)出一系列高新精細(xì)氧化鎂產(chǎn)品,主要用于高級(jí)潤(rùn)滑油、高級(jí)鞣革提堿級(jí)、食品級(jí)、醫(yī)藥級(jí)、硅鋼級(jí)、高級(jí)電磁級(jí)、高純氧化鎂等近十個(gè)品種組成。

           

          三、設(shè)備介說(shuō)明:

           

          SGN德國(guó)納米科研級(jí)氧化鎂研磨分散機(jī)在分散氧化鎂時(shí)通過(guò)14000rpm超高的轉(zhuǎn)速形成的*剪切力使物料在0.2-0.3mm極細(xì)的定轉(zhuǎn)子間隙中形成每分鐘數(shù)以 萬(wàn)次的撞擊、破碎、撕裂,將原本抱團(tuán)的納米級(jí)氧化鎂進(jìn)一步的破碎,打開團(tuán)塊形成納米級(jí)顆粒狀,為防止被打碎的納米級(jí)氧化鎂顆粒再次抱團(tuán),我們?cè)谘?nbsp;磨后又加了一級(jí)分散均質(zhì)盤,對(duì)物料進(jìn)行*的分散,阻止物料再進(jìn)行二次抱團(tuán)。氧化鎂分散的越細(xì)越均一,對(duì)于后期做應(yīng)用性能就越好!

           

          四、影響納米材料分散要素:

           

          1、分散介質(zhì)

          (1)根據(jù)粘度不同,分散介質(zhì)分為高粘度、中粘度和低粘度三種。在低粘度介質(zhì)中,如水和有機(jī)溶劑,納米材料易于分散。中粘度介質(zhì)如液態(tài)環(huán)氧樹脂、液態(tài)硅橡膠等,高粘度介質(zhì)如熔融態(tài)的塑料。

          2、分散劑

          (1)分散劑的選擇,與分散介質(zhì)的結(jié)構(gòu)、極性、溶度參數(shù)等密切相關(guān)。

          (2)分散劑的用量,與納米材料比表面積和共價(jià)鍵修飾的功能基團(tuán)有關(guān)。

          (3)水性介質(zhì)中,*使用TNWDIS。強(qiáng)極性有機(jī)溶劑中,如醇、DMF、NMP, *使用TNADIS。

          3、分散設(shè)備

          上海SGN思峻)機(jī)械設(shè)備有限公司專門應(yīng)對(duì)納米材料分散開發(fā)的高剪切三級(jí)分散機(jī)GMD2000系列適合大規(guī)模地分散納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產(chǎn)品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細(xì)高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、納米三防整理劑等系列粉體、液體、制劑在中、低粘度介質(zhì)里的分散。

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          高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)是高效、快速、均勻地將一個(gè)相或多個(gè)相固體進(jìn)入到另一互不相溶的連續(xù)相(通常液體)的過(guò)程的設(shè)備的設(shè)備。

          當(dāng)其中一種或者多種材料的細(xì)度達(dá)到微米數(shù)量級(jí)時(shí),甚至納米級(jí)時(shí),體系可被認(rèn)為均質(zhì)。當(dāng)外部能量輸入時(shí),兩種物料重組成為均一相。高剪切均質(zhì)機(jī)由于轉(zhuǎn)子高速旋轉(zhuǎn)所產(chǎn)生的高切線速度和高頻機(jī)械效應(yīng)帶來(lái)的強(qiáng)勁動(dòng)能,使物料在定、轉(zhuǎn)子狹窄的間隙中受到強(qiáng)烈的機(jī)械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,形成懸浮液。高剪切均質(zhì)機(jī)從而使不相溶的固相、液相、氣相在相應(yīng)熟工藝和適量添加劑的共同作用下,瞬間均勻精細(xì)的分散均質(zhì),經(jīng)過(guò)高頻管線式高剪切分散機(jī)的循環(huán)往復(fù),zui終得到穩(wěn)定的高品質(zhì)產(chǎn)品。

           

          五、設(shè)備參數(shù):

           

          型號(hào)

          流量

          L/H

          轉(zhuǎn)速

          rpm

          線速度

          m/s

          功率

          kw

          入/出口連接

          DN

          GMD2000/4

          300

          9000

          23

          2.2

          DN25/DN15

          GMD2000/5

          1000

          6000

          23

          7.5

          DN40/DN32

          GMD2000/10

          2000

          4200

          23

          22

          DN80/DN65

          GMD2000/20

          5000

          2850

          23

          37

          DN80/DN65

          GMD2000/30

          8000

          1420

          23

          55

          DN150/DN125

          GMD2000/50

          15000

          1100

          23

          110

          DN200/DN150

           

          高新精細(xì)氧化鎂納米研磨分散機(jī)信息來(lái)源:www.sgnprocess。。cn

           



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