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脈沖激光沉積系統(tǒng)

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產(chǎn)品型號(hào)Pioneer 120 PLD System

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更新時(shí)間：2024-05-07 15:04:43瀏覽次數(shù)：506次

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

產(chǎn)地	美國(guó)

Pioneer 120 PLD System是基礎(chǔ)型獨(dú)立PLD系統(tǒng)，用于制備高質(zhì)量的外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)、超晶格等。Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)使用導(dǎo)電加熱階段用于襯底加熱，其他模型使用輻射加熱階段。

詳細(xì)介紹

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

Pioneer120 PLD System是基礎(chǔ)型獨(dú)立PLD系統(tǒng)，用于制備高質(zhì)量的外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)、超晶格等。該P(yáng)LD系統(tǒng)與Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)和Pioneer 180 PLD系統(tǒng)的主要區(qū)別是襯底加熱階段。Pioneer 120 Advanced系統(tǒng)使用導(dǎo)電加熱階段用于襯底加熱，其他模型使用輻射加熱階段。為了達(dá)到950°c的額定高溫，基板必須與加熱板緊密接觸，用銀漿提供加熱板和基板之間的緊密接觸(當(dāng)需要這些高溫時(shí))。在不需要銀漿的情況下，還提供襯底夾來(lái)固定襯底。在這些情況下, highest 襯底溫度可能低于額定950°c。加熱器是氧兼容的，能達(dá)到1大氣(760托)的氧, 這個(gè)特性有助于制備外延氧化薄膜：可能需要在氧氣環(huán)境后沉積和氧氣壓力接近1 atmosphere后退火冷卻。Pioneer 120 PLD系統(tǒng)包括一個(gè)自動(dòng)多目標(biāo)轉(zhuǎn)，具有目標(biāo)旋轉(zhuǎn)、目標(biāo)光柵和軟件控制的多層和超晶格沉積所需的目標(biāo)選擇。閉環(huán)壓力控制提供了使用質(zhì)量流量控制器的精確過(guò)程壓力控制。干式泵是由機(jī)械隔膜泵或渦旋泵支持的渦輪分子泵組合而成。該系統(tǒng)軟件(Windows 7, LabView 2013)控制基材加熱器，目標(biāo)轉(zhuǎn)，過(guò)程壓力，系統(tǒng)泵和激光觸發(fā)。

產(chǎn)品特點(diǎn)

獨(dú)立的交鑰匙PLD系統(tǒng)。

外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積。

納米級(jí)薄膜的沉積。

外延氧化膜沉積的可編程氧兼容加熱器。

自動(dòng)多目標(biāo)旋轉(zhuǎn)多層沉積。

全干式真空泵組。

通過(guò)系統(tǒng)軟件進(jìn)行閉環(huán)壓力控制。

技術(shù)指標(biāo)

1、沉積室

8"CF泵口。8"CF襯底加熱器端口。8“CF的目標(biāo)

2、旋轉(zhuǎn)端口