PLC 工控機 嵌入式系統(tǒng) 人機界面 工業(yè)以太網(wǎng) 現(xiàn)場總線 變頻器 機器視覺 DCS PAC/PLMC SCADA 工業(yè)軟件 ICS信息安全 應(yīng)用方案 無線通訊
北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
| 參 考 價 | 面議 |
產(chǎn)品型號Ion-Assisted PLD System
品 牌其他品牌
廠商性質(zhì)代理商
所 在 地北京市
聯(lián)系方式：Lisa查看聯(lián)系方式
更新時間：2024-05-09 13:04:14瀏覽次數(shù)：2134次
聯(lián)系我時，請告知來自 智能制造網(wǎng)離子輔助脈沖激光沉積系統(tǒng)已經(jīng)成為在無規(guī)取向的基片或非晶襯底上沉積雙軸結(jié)構(gòu)薄膜的一種重要技術(shù)。Neocera 開發(fā)了離子輔助的 PLD 系統(tǒng)，該系統(tǒng)將 PLD 在沉積復(fù)雜材料方面的優(yōu)勢與 IBAD 能力結(jié)合在一起。
產(chǎn)品簡介
通過優(yōu)化PLD薄膜沉積速率和離子刻蝕速率，離子輔助PLD系統(tǒng)被用于在非晶或多晶基底上創(chuàng)建雙軸織構(gòu)模板(薄膜)。雙軸織構(gòu)通常是在室溫下進行的，這有利于使用許多襯底，否則不允許高質(zhì)量的薄膜生長。氧化釔穩(wěn)定的氧化鋯(YSZ)和相關(guān)材料，氧化鎂(MgO)是最\常\用的織構(gòu)材料。離子輔助PLD最初被提議用于在金屬基底上沉積雙軸織化高溫超導(dǎo)YBCO薄膜，它可以擴展到許多技術(shù)上重要的基底，其中表面織化對應(yīng)用至關(guān)重要。在沉積雙軸紋理模板后，活性器件層，如YBCO, PZT, CIGS等可以在應(yīng)用程序確定的高溫下沉積。離子輔助PLD可以被看作是在沉積參數(shù)空間不足的情況下，在襯底和活性膜之間發(fā)展智能界面的一種方法。
在許多應(yīng)用中，薄膜襯底組合對于器件的應(yīng)用是至關(guān)重要的。然而，如果所選的襯底不允許高質(zhì)量的薄膜生長，則可能有必要開發(fā)一種能夠克服襯底結(jié)構(gòu)和化學(xué)不相容的智能界面。離子輔助PLD可以通過改變成核過程或生長動力學(xué)來創(chuàng)建氧化物或金屬的界面。離子輔助沉積已經(jīng)成為在無規(guī)取向的基片或非晶襯底上沉積雙軸結(jié)構(gòu)薄膜的一種重要技術(shù)。Neocera 開發(fā)了離子輔助的 PLD 系統(tǒng)，該系統(tǒng)將 PLD 在沉積復(fù)雜材料方面的優(yōu)勢與 IBAD 能力結(jié)合在一起。
產(chǎn)品特點
獨立的交鑰匙離子束輔助PLD系統(tǒng)。
在非晶和多晶襯底上沉積雙軸織構(gòu)模板。
外延薄膜、多層異質(zhì)結(jié)構(gòu)和超晶格的沉積。
用RHEED診斷法沉積織構(gòu)MgO薄膜。
氧化膜沉積的氧相容性。
您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
維克托LY優(yōu)勢供應(yīng)HYGROMATIK 蒸汽發(fā)生器
FLP15-TSPA-AE00 面議
智能制造網(wǎng) 設(shè)計制作，未經(jīng)允許翻錄必究 .? ? ?
請輸入賬號
請輸入密碼
請輸驗證碼
