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          行業(yè)產(chǎn)品
          
							
						
          
						
            
							
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          北京正通遠(yuǎn)恒科技有限公司
                                
                
                
          

							
          
                        			
          
		
          
	
          
	
	
          
		
          
            
			
          
				
          
					
          脈沖激光沉積系統(tǒng)
          
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          產(chǎn)品型號(hào)Pioneer 180 MAPLE PLD
          
							
          品       牌其他品牌
          
		                    
          廠商性質(zhì)代理商
          
		                    							
          所  在  地北京市
          
						
          
                        
                    
          
					 							        										
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								更新時(shí)間：2024-05-09 13:12:49瀏覽次數(shù)：528次
							
          
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                    產(chǎn)品簡(jiǎn)介
                
          
				
          
                      
          
                                                                      
          
					
          脈沖激光沉積系統(tǒng)，通過(guò)將待沉積的有機(jī)物（或聚合物）與吸收激光波長(zhǎng)的溶劑（基質(zhì)）混合來(lái)制備特殊的靶然后用液氮冷卻液體目標(biāo)物，使其凍結(jié)為固體。激光輻射主要被目標(biāo)的高揮發(fā)性、冷凍的溶劑（基質(zhì)）分子吸收，這些分子隨后從固體目標(biāo)中脫離，捕獲和帶走感興趣的有機(jī)分子。在它們向基片傳輸?shù)倪^(guò)程中，高揮發(fā)性的基質(zhì)分子被抽走，將有機(jī)分子輸送到基片上沉積薄膜。
          
				
          
				
          
                    詳細(xì)介紹
                
          
			    
          
			        
          
			            
          產(chǎn)品簡(jiǎn)介
          基質(zhì)輔助脈沖激光蒸發(fā)(MAPLE)是PLD的一種變體。這是由NRL集團(tuán)引入的，以促進(jìn)某些功能有機(jī)材料的薄膜沉積?；赨V (5-6 eV)的傳統(tǒng)PLD技術(shù)可能不適用于這種情況，因?yàn)楣饣瘜W(xué)反應(yīng)可能會(huì)惡化有機(jī)分子、聚合物等的功能。在MAPLE中，通過(guò)將待沉積的有機(jī)物(或聚合物)與吸收激光波長(zhǎng)的溶劑(基質(zhì))混合來(lái)制備特殊的靶。除了光學(xué)吸收外，在沉積條件下的高蒸氣壓是基質(zhì)的先決條件。然后用液氮冷卻液體目標(biāo)物，使其凍結(jié)為固體。激光輻射主要被目標(biāo)的高揮發(fā)性、冷凍的溶劑(基質(zhì))分子吸收，這些分子隨后從固體目標(biāo)中脫離，捕獲和帶走感興趣的有機(jī)分子。在它們向基片傳輸?shù)倪^(guò)程中，高揮發(fā)性的基質(zhì)分子被抽走，將有機(jī)分子輸送到基片上沉積薄膜。

          產(chǎn)品特點(diǎn)
          獨(dú)立的MAPLE PLD系統(tǒng)。
          有機(jī)和聚合物薄膜的沉積。
          在同一室的附加沉積源(可選):脈沖電子沉積(PED)、射頻/直流濺射和直流離子源。
          負(fù)載鎖定基底階段。

          技術(shù)參數(shù)
          1. PLD真空室尺寸：12 " / 18"直徑(Pioneer 120-Advanced/ Pioneer 180 Models).
          2. 基礎(chǔ)真空：5 x 10-7 Torr，泵軟件控制。
          3. 襯底尺寸：maximum直徑2“和/或多種1厘米x1厘米的樣品。
          4. 襯底加熱：highest 500℃，擁有可編程的加熱器。
          5. 基底旋轉(zhuǎn)：20 RPM。軟件控制。
          6. 目標(biāo)階段：液氮冷卻；單目標(biāo)階段為標(biāo)準(zhǔn)；多個(gè)目標(biāo)(可選)
          7 真空裝夾：襯底負(fù)載制動(dòng)
          8. 工業(yè)廢氣：按要求處理氣體。50 - 100 SCCM mfc電池
          9. 軟件：Windows 7/Labview 2013。

          應(yīng)用領(lǐng)域
          脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的*之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有*功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。另外，PLD 是一種“ 數(shù)字" 技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（?/pulse）。
          • Neocera 在PLD 設(shè)備與工藝開(kāi)發(fā)方面具有不可超越的經(jīng)驗(yàn)
          • Pioneer 系列PLD 系統(tǒng)是globally研發(fā)領(lǐng)域most廣泛使用的商業(yè)化系統(tǒng)
          • Neocera 不僅為客戶提供最基本的PLD 系統(tǒng)，也提供完整的PLD 實(shí)驗(yàn)室交鑰匙方案
















































































































          
			        
          
			    
          
                                                				
          
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