產品介紹：

   XQ20-GⅠ型激光平面干涉儀主要用于精密光學平面的平面度測量，光學平板的微小楔角測量,光學材料均勻性測量,配置相應的工作臺可實施光學薄板波前誤差的測量。是光學元件加工廠、光學儀器生產廠的光學檢測儀器。

   此型號儀器采用大工作室移動檢測方案，解決大口徑高精度平面加工在線檢測難題；采用隱形布簾式圍板,既可保證高精度測量的需要又可實現(xiàn)大批量生產車間大口徑工作盤流水快速的篩選測量;運用高分辨率的攝像系統(tǒng)及顯示系統(tǒng),減輕了操作人員的勞動強度,檢測直觀方便;運用經濟合理的簡化結構,既保證儀器應有的測量精度又降低了制造成本,為中低精度大批量生產廠家實現(xiàn)非接觸快速測量創(chuàng)造了條件。

技術參數(shù)：

1．標準平面（A面），工作直徑D1=Φ200mm，平面的面形偏差小于0.045μm(λ/15)

2．第二標準平面（B面），工作直徑D2=Φ200mm，平面的面形偏差小于0.045μm(λ/15)

3．準直系統(tǒng)…………………………工作直徑Φ200mm ，焦距 f = 580mm，波象差<λ/15

4．工作室尺寸…………………………1100×1100×350mm 可測量范圍800mm×800mm(移動)

5．光源規(guī)格……………………………………激光ZN250（He－Ne）（632.8nm）。

6．儀器的外形尺寸……………………………… 1400×1250×1560mm(高)

7．儀器質量…………………………………………500kg