深入表面 · 魅力科學(xué)
（1）產(chǎn)品簡(jiǎn)述
（1.1）等離子清洗的作用
等離子清洗的作用原理主要是：
（A）對(duì)材料表面的刻蝕作用--物理作用
等離子體中的大量離子、激發(fā)態(tài)分子、自由基等多種活性粒子，作用到固體樣品表面，不但清除了表面原有的污染物和雜質(zhì)，而且會(huì)產(chǎn)生刻蝕作用，將樣品表面變粗糙，形成許多微細(xì)坑洼，增大了樣品的比表面。提高固體表面的潤(rùn)濕性能。
（B）激活鍵能，交聯(lián)作用
等離子體中的粒子能量在0~20eV，而聚合物中大部分的鍵能在0~10eV，因此等離子體作用到固體表面后，可以將固體表面的原有的化學(xué)鍵產(chǎn)生斷裂，等離子體中的自由基與這些鍵形成網(wǎng)狀的交聯(lián)結(jié)構(gòu)，大大地激活了表面活性。
（C）形成新的官能團(tuán)--化學(xué)作用
如果放電氣體中引入反應(yīng)性氣體，那么在活化的材料表面會(huì)發(fā)生復(fù)雜的化學(xué)反應(yīng)，引入新的官能團(tuán)，如烴基、氨基、羧基等，這些官能團(tuán)都是活性基團(tuán)，能明顯提高材料表面活性。
（1.2）大氣線性等離子清洗的優(yōu)勢(shì)
等離子清洗作為重要的材料表面改性方法，已經(jīng)在眾多領(lǐng)域廣泛使用。
與傳統(tǒng)的一些清洗方法，如超聲波清洗、UV清洗等，具有以下優(yōu)點(diǎn)：
（A）處理溫度低
處理溫度可以低至80℃、50℃以下，低的處理溫度可以確保對(duì)樣品表面不造成熱影響。
（B）處理全程無(wú)污染
等離子清洗機(jī)本身是很環(huán)保的設(shè)備，不產(chǎn)生任何污染，處理過(guò)程也不產(chǎn)生任何污染。
可以與原有生產(chǎn)流水線搭配，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)在線生產(chǎn)，節(jié)約人力成本。
（C）處理效果穩(wěn)定
等離子清洗的處理效果非常均勻穩(wěn)定，常規(guī)樣品處理后較長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)保持效果良好。
（D）可以*搭配自動(dòng)化流水線，提高生產(chǎn)效率
根據(jù)用戶現(xiàn)場(chǎng)需求，配置流水線生產(chǎn)方案，大大提高生產(chǎn)效率。
（1.2）產(chǎn)品原理
等離子清洗機(jī)的結(jié)構(gòu)主要分為三大組成部分，分別是高壓激勵(lì)電源、等離子發(fā)生裝置噴槍、控制系統(tǒng)。
（A）高壓激勵(lì)電源：
等離子體的產(chǎn)生需要高壓激勵(lì)，大氣線性等離子采用射頻電源進(jìn)行激勵(lì)，頻率為13.56MH，激勵(lì)均勻穩(wěn)定。參數(shù)根據(jù)樣品實(shí)際情況可進(jìn)行調(diào)節(jié)，已達(dá)到優(yōu)秀的改性效果。
（B）等離子發(fā)生裝置噴槍：
大氣線性等離子發(fā)生裝置采用進(jìn)口設(shè)計(jì)的放電裝置，放電效果均勻，處理高度高。
（C）控制系統(tǒng)：
控制系統(tǒng)作用在于控制整個(gè)大氣線性等離子清洗設(shè)備的運(yùn)行，以及整體系統(tǒng)的保護(hù)。
（2）技術(shù)規(guī)格
基本參數(shù) |
設(shè)備尺寸 | 1750L * 1200W * 1500Hmm |
重量 | 100KG |
輸入電源 | 220V，50/60Hz |
功率 | 600W |
保護(hù)防護(hù) | 過(guò)載保護(hù)、短路保護(hù)、斷路保護(hù)、溫度保護(hù) |
電源參數(shù) |
電源功率 | 600W可調(diào) |
電源頻率 | 13.56MHz |
放電裝置參數(shù) |
有效處理寬度 | 500mm |
處理高度 | 5mm |
其它參數(shù) |
傳送帶傳輸速度 | 0-60mm/s可調(diào) |
氣路控制 | Ar、O2、N2，三路可選 |
PLC控制 | 西門子、松下系列 |
（3）性能優(yōu)勢(shì)
線性等離子體系統(tǒng)，該系統(tǒng)是具有條帶處理能力的大容量緊湊型平臺(tái)。 系統(tǒng)使其前身的容量和吞吐量翻倍，而占地面積僅占16％。等離子體室具有較低的擁有成本，每等離子體循環(huán)可處理多達(dá)10條。 等離子體系統(tǒng)設(shè)計(jì)用于在裸片附著，引線鍵合，模具封裝和底部填充之前的等離子體處理。
等離子體處理可消除污染，蝕刻表面以改善粘附性，并在電子制造過(guò)程中提供表面活化。通過(guò)等離子體處理的表面活化可以通過(guò)增強(qiáng)流體流動(dòng)，消除空隙和增加芯吸速度來(lái)增強(qiáng)模具附著，模制，引線接合和底部填充。
等離子體系統(tǒng)的集成條帶處理系統(tǒng)，為各種條帶尺寸提供快速可靠的材料傳輸?？梢詮拇蠖鄶?shù)類型的雜志和運(yùn)營(yíng)商處理。腔體設(shè)計(jì)和控制系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)低等離子體循環(huán)時(shí)間，低開(kāi)銷，確保吞吐量，并將所有權(quán)成本降至。 CDS平臺(tái)的室內(nèi)技術(shù)與CD平臺(tái)*相同，因此過(guò)渡到新的CDS平臺(tái)很容易。該系統(tǒng)具有1119 mm寬x 1286 mm深（44 x 51英寸）的緊湊型占地面積。
寬幅線性等離子清洗機(jī)-達(dá)因特
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