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          太倉希德機械科技有限公司

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          XMD2000二氧化硅溶膠研磨分散機
          參考價: 98000
          訂貨量: 1
          具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
          • XMD2000 產(chǎn)品型號
          • 其他品牌 品牌
          • 生產(chǎn)商 廠商性質(zhì)
          • 蘇州市 所在地

          訪問次數(shù):277更新時間:2024-11-04 11:07:30

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          產(chǎn)品簡介
          二氧化硅溶膠研磨分散機轉(zhuǎn)子速度可以達(dá)到44m/s。在該速度范圍內(nèi),由剪切力所造成的湍流結(jié)合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。
          產(chǎn)品介紹

          二氧化硅溶膠研磨分散機

          硅溶膠為納米級的二氧化硅顆粒在水中或溶劑中的分散液。由于硅溶膠中的SiO2含有大量的水及羥基,故硅溶膠也可以表述為2O。制備硅溶膠有不同的途徑。 常用的方法有離子交換法、硅粉一步水解法、硅烷水解法等。 硅溶膠屬膠體溶液,無臭、 。硅溶膠為納米級的二氧化硅顆粒在水中或溶劑中的分散液。由于硅溶膠中的SiO2含有大量的水及羥基,故硅溶膠也可以表述為2O。

          硅溶膠無機高分子涂料是近幾年發(fā)展起來的。制備該涂料的關(guān)鍵技術(shù)是

          硅溶膠

          用特殊的方法除去水玻璃中水溶性的鈉離子。一般可以用離子交換、酸中和、水分解、電滲析等方法來實現(xiàn),以生成一種極細(xì)的二氧化硅超微粒子膠狀水溶液,粒徑為580nm(一般乳液顆粒為800-1000nm)其中Si2O含量20%-30%,Na2O含量0.3%¥,氧化硅和氧化鈉的比例在40%以上。以這種硅溶液/膠為基料,配合顏料和各種助劑而制成硅溶膠無機高分子涂料。硅溶液在失去水分時,單體硅酸逐漸聚合成高聚硅膠,隨水分的蒸發(fā),膠體分子增大,最后形成-SIO-O-SIO-涂膜:IO-SI-OH+HO-SI-OH因NA2O在硅溶膠中的含量低,硅溶膠具有一定量成膜溶解的特性,其耐水性、耐熱性能明顯 有機涂料。涂膜致密且較硬,不產(chǎn)生靜電,空氣中各種塵埃難粘附。在建筑涂料中,它的抗污染能力是較強的。

          細(xì)微的顆粒,對基層有較強的滲透力,能通過毛細(xì)管滲透到基層內(nèi)部,并能與混凝土基層中的氫氧化鈣反應(yīng)生成硅酸鈣,使涂料具有較強的粘結(jié)力。

          但硅溶膠在成膜過程中體積收縮較大,涂膜易開裂。硅溶膠能與丙烯酸酯、醋酸乙烯等乳液任意相溶。兩者的特性相互補充,可以配制出性能優(yōu)良的有機、無機復(fù)合涂料。

          一種高抗凍性能硅溶膠的制備方法,是以硅粉水解法制得的硅溶膠產(chǎn)品為原料制得,所述原料中二氧化硅質(zhì)量分?jǐn)?shù)為17 — 31%,氧化鈉質(zhì)量分?jǐn)?shù)為0.25-0.45%,pH值為8.5-9.5,膠粒粒徑為8-20納米。

          步驟如下:

          (1)將 型陽離子交換樹脂裝柱,按下述方法處理:先用去離子水清洗離子交換樹脂3-5次;再用4-5wt%的HCl溶液浸泡2-4小時,然后用去離子水淋洗至出水呈中性;改用4-5wt% NaOH溶液繼續(xù)浸泡2_4小時,并用去離子水洗至出水呈中性; 重復(fù)上述方法處理2-3次,每次HCl溶液和NaOH溶液的體積用量均為樹脂體積的2_3倍;最后,用4-5wt%的HCl溶液浸泡樹脂2-4小時,放盡HCl溶液后,用去離子水淋洗至出水呈中性。

          (2)將濃度為6-8wt%的氯化銨溶液注入處理好的離子交換樹脂柱內(nèi),浸泡1-2小時后放盡氯化銨溶液,再用去離子水淋洗至出水pH4.5-5.5。

          (3)將原料注入步驟(2)處理好的離子交換樹脂柱內(nèi),使原料離子轉(zhuǎn)型反應(yīng)0.5-5h,得含有銨鹽的硅溶膠;所述的含有銨鹽的硅溶膠PH2-4 。

          (4)將步驟(3)得到的含有銨鹽的硅溶膠攪拌狀態(tài)下加入氫氧化鋰懸浮溶液,所述的氫氧化鋰的加入量為含有銨鹽的硅溶膠質(zhì)量的0.04-0.1%,所述氫氧化鋰懸浮溶液的濃度為3-5wt%,調(diào)整pH值在8.5-9.5之間,再攪拌10-20分鐘,即得高抗凍性能硅溶膠。

          XMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

          第yi級由具有精細(xì)度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

          第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

          以下為型號表供參考:

          型號

          標(biāo)準(zhǔn)流量

          L/H

          輸出轉(zhuǎn)速

          rpm

          標(biāo)準(zhǔn)線速度

          m/s

          馬達(dá)功率

          KW

          進(jìn)口尺寸

          出口尺寸

          XMD2000/4

          400

          18000

          44

          4

          DN25

          DN15

          XMD2000/5

          1500

          10500

          44

          11

          DN40

          DN32

          XMD2000/10

          4000

          7200

          44

          22

          DN80

          DN65

          XMD2000/20

          10000

          4900

          44

          45

          DN80

          DN65

          XMD2000/30

          20000

          2850

          44

          90

          DN150

          DN125

          XMD2000/50

          60000

          1100

          44

          160

          DN200

          DN150

          二氧化硅溶膠研磨分散機





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